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龍圖騰網獲悉華能核能技術研究院有限公司申請的專利一種高溫氣冷堆分子篩床和低溫活性炭床聯合再生方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115497650B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211134927.5，技術領域涉及：G21C19/303；該發明授權一種高溫氣冷堆分子篩床和低溫活性炭床聯合再生方法是由許杰;雷偉俊;張振魯;肖三平;孫惠敏;盛建鵬;楊文明設計研發完成，并于2022-09-19向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種高溫氣冷堆分子篩床和低溫活性炭床聯合再生方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種高溫氣冷堆分子篩床和低溫活性炭床聯合再生方法。本發明結合分子篩床再生和低溫活性炭床再生的過程特點，將兩個再生過程結合，在分子篩床的冷卻過程中兩個再生過程會出現交叉過程，利用低溫活性炭床自然升溫過程產生的低溫氣體對分子篩床進行冷卻，同時加熱后的低溫氣體進入低溫活性炭床使得低溫活性炭床快速升溫，本發明將分子篩床的冷卻過程和低溫活性炭床的升溫過程聯合，在改善再生效果的同時，提升再生效率，具有較強的廣泛的應用性。

本發明授權一種高溫氣冷堆分子篩床和低溫活性炭床聯合再生方法在權利要求書中公布了：1.一種高溫氣冷堆分子篩床和低溫活性炭床聯合再生方法，其特征在于，包括以下步驟： 1將分子篩床接入再生回路進行加熱循環至分子篩床出口氣體含水量≤3000ppm且氣水分離器液位無明顯上升，所述再生回路上沿氣體流動方向依次設置冷卻器、所述氣水分離器、氣體壓縮機和電加熱器，所述分子篩床和所述低溫活性炭床接入在所述冷卻器和所述電加熱器之間的管線上； 2將所述分子篩床排氣至常壓后接入輔助分子篩床回路進行加熱再生至分子篩床出口氣體含水量無明顯下降，所述氣水分離器和所述氣體壓縮機之間的旁路上設置所述輔助分子篩床； 3將所述分子篩床再次排氣至常壓后，連通所述分子篩床、低溫活性炭床和所述再生回路，所述低溫活性炭床中的低溫氣體流經所述分子篩床對其冷卻，被加熱的所述低溫氣體通過所述再生回路的冷卻回到所述低溫活性炭床對其進行加熱，直至分子篩出口氣體溫度≤60℃后將所述分子篩床與所述低溫活性炭床和所述再生回路隔離； 4對所述分子篩床抽真空同時對所述低溫活性炭床進行加熱再生。

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