深圳邁塔蘭斯科技有限公司朱健獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉深圳邁塔蘭斯科技有限公司申請的專利一種加工透明襯底的光刻工藝獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115327865B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211119620.8，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權一種加工透明襯底的光刻工藝是由朱健;朱瑞;郝成龍;譚鳳澤設計研發完成，并于2022-09-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種加工透明襯底的光刻工藝在說明書摘要公布了：本發明提供了一種加工透明襯底的光刻工藝，包括：在透明襯底的正面鍍設環狀結構的增反膜，所述增反膜的寬度大于或等于光刻機探測器的探測精度；所述增反膜被配置為能夠反射所述工作波段的光線；基于光刻機對所述透明襯底的正面有效區域進行光刻加工，所述正面有效區域為所述透明襯底的正面中除所述增反膜之外的區域。通過本發明實施例提供的加工透明襯底的光刻工藝，在透明襯底的正面鍍設環狀結構的增反膜，該增反膜能夠反射光刻機工作波段的光線，使得設有增反膜的透明襯底被放入光刻機后，能夠被光刻機探測器識別到，進而能夠實現對透明襯底進行光刻加工；工藝簡單，且透明襯底背面沒有其它金屬膜，不會污染光刻機。
本發明授權一種加工透明襯底的光刻工藝在權利要求書中公布了：1.一種加工透明襯底的光刻工藝，其特征在于，包括： 在透明襯底的正面鍍設環狀結構的增反膜，所述增反膜的寬度大于或等于光刻機探測器的探測精度；所述透明襯底指的是選用的襯底在所述光刻機探測器的工作波段透明，所述增反膜被配置為能夠反射所述光刻機探測器的工作波段的光線；其中，入射至所述增反膜的光線被反射至所述光刻機探測器，使得所述光刻機探測器能夠探測到所述增反膜，進而能夠間接識別出所述透明襯底； 基于光刻機對所述透明襯底的正面有效區域進行光刻加工，所述正面有效區域為所述透明襯底的正面中除所述增反膜之外的區域。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人深圳邁塔蘭斯科技有限公司，其通訊地址為：518101 廣東省深圳市寶安區新安街道上合社區33區大寶路83號美生慧谷科技園秋谷8棟6樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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