株式會社日立高新技術佐野裕子獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社日立高新技術申請的專利缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115808434B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211080646.6，技術領域涉及：G01N23/2251；該發明授權缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法是由佐野裕子;石川昌義;新藤博之設計研發完成，并于2022-09-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法在說明書摘要公布了：本發明提供缺陷檢查系統、缺陷檢查方法，能吸收拍攝條件不同所引起的檢查圖像的差，或具有各檢查工序中能共同使用的過濾模型，能進行高效率的檢查。缺陷檢查系統100具有：缺陷檢測部104，比較檢查圖像4和不具有缺陷的圖像即參照圖像來檢測檢查圖像內缺陷位置；過濾模型，將檢測的缺陷位置分類為虛報或指定的缺陷種類；過濾條件保持部106，保持過濾條件；缺陷區域提取部，在每個預定的距離內將缺陷檢測部104檢測的缺陷位置匯總；缺陷過濾部105，按每個缺陷區域判定是否符合過濾條件，僅提取符合的缺陷區域；標準化部101，基于檢查時的加工工序和按每個加工工序或每個拍攝條件設定的標準化條件對檢查圖像4進行標準化。
本發明授權缺陷檢查系統以及缺陷檢查方法在權利要求書中公布了：1.一種缺陷檢查系統，其基于在通過1個以上的加工工序加工的試樣中在1個以上的加工工序后拍攝到的試樣的檢查圖像來檢查有無缺陷，其特征在于， 所述缺陷檢查系統具備： 缺陷檢測部，其將所述檢查圖像和參照圖像進行比較來檢測檢查圖像內的缺陷位置，其中，所述參照圖像是與所述檢查圖像在同一檢查點且不具有缺陷的圖像； 過濾模型，其將由所述缺陷檢測部檢測出的缺陷位置分類為虛報或指定的缺陷種類； 過濾條件保持部，其保持由指定的缺陷種類和或缺陷尺寸構成的過濾條件； 缺陷區域提取部，其在每個預定的距離內將由所述缺陷檢測部檢測出的缺陷位置匯總在一起； 缺陷過濾部，其針對由所述缺陷區域提取部提取出的每個缺陷區域，判定是否符合所述過濾條件，僅提取符合的缺陷區域；以及 標準化部，其基于檢查時的所述加工工序和按照每個加工工序或每個拍攝條件設定的標準化條件，對所述檢查圖像進行標準化， 所述過濾模型通過使用由所述標準化部標準化后的檢查圖像來進行學習，從而得到所述過濾模型。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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