浙江大華技術股份有限公司彭雙獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉浙江大華技術股份有限公司申請的專利圖像重建、編碼解碼方法、相關裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114463453B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202111529900.1,技術領域涉及:G06F7/00;該發明授權圖像重建、編碼解碼方法、相關裝置是由彭雙;江東;方誠;張雪;林聚財;殷俊設計研發完成,并于2021-12-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本圖像重建、編碼解碼方法、相關裝置在說明書摘要公布了:本發明提供一種圖像重建、編碼解碼方法、相關裝置,圖像重建方法基于圖像重建模型進行,圖像重建模型包括特征處理層、超分處理層以及增強處理層,方法包括:利用特征處理層對輸入圖像進行特征提取,得到特征圖像;利用超分處理層對特征圖像進行處理,得到第一輸出圖像;以及利用增強處理層對特征圖像進行處理,得到第二輸出圖像;其中,第一輸出圖像的分辨率大于輸入圖像的分辨率;第二輸出圖像的客觀質量大于輸入圖像的客觀質量。圖像超分與增強共用特征處理層,提高了計算性能,并且降低了計算資源開銷。
本發明授權圖像重建、編碼解碼方法、相關裝置在權利要求書中公布了:1.一種圖像重建方法,其特征在于,所述圖像重建方法基于圖像重建模型進行,所述圖像重建模型包括特征處理層、超分處理層以及增強處理層,所述方法包括: 利用所述特征處理層對輸入圖像進行特征提取,得到特征圖像時,包括: 待重建圖像包括Y分量圖像、U分量圖像以及V分量圖像,所述輸入圖像包括Y分量輸入圖像、U分量輸入圖像、V分量輸入圖像; 利用反卷積層對U分量輸入圖像、V分量輸入圖像進行處理,使得所述U分量輸入圖像、所述V分量輸入圖像的尺寸與Y分量輸入圖像的尺寸匹配,將反卷積層處理后的所述U分量輸入圖像、所述V分量輸入圖像、所述Y分量輸入圖像進行拼接,進而將所述輸入圖像的尺寸調整至預設尺寸,得到待處理圖像,所述預設尺寸為所述圖像重建模型的輸入尺寸; 利用第一卷積層對所述待處理圖像進行處理; 依次利用殘差模塊的N個級聯的殘差單元對所述第一卷積層的輸出進行處理,N大于或等于1,其中,首個所述殘差單元的輸入為所述第一卷積層的輸出,第N個所述殘差單元的輸入為第N-1個所述殘差單元的輸出;且第M個殘差單元中,依次利用R個子殘差單元對所述第M個殘差單元的輸入進行處理,所述子殘差單元包括卷積層、激活層且所述卷積層的輸出作為所述激活層的輸入;利用第三卷積層對第R個所述子殘差單元的輸出進行處理;利用注意力模塊對所述第三卷積層的輸出進行處理;將所述注意力模塊的輸出與所述第三卷積層的輸出相乘,得到乘積;將所述第M個殘差單元的輸入與所述乘積相加,得到所述第M個殘差單元的輸出; 利用第二卷積層對所述殘差模塊的輸出進行處理; 將所述第一卷積層的輸出與所述第二卷積層的輸出相加,得到所述特征圖像; 利用所述超分處理層對所述特征圖像進行處理,得到第一輸出圖像;以及 利用所述增強處理層對所述特征圖像進行處理,得到第二輸出圖像;其中,所述第一輸出圖像的分辨率大于所述輸入圖像的分辨率;所述第二輸出圖像的客觀質量大于所述輸入圖像的客觀質量。
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