買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉鎧俠股份有限公司申請的專利描繪方法、母版制造方法及描繪裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115113476B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110929920.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F1/78；該發(fā)明授權(quán)描繪方法、母版制造方法及描繪裝置是由香川譲德設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-08-13向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本描繪方法、母版制造方法及描繪裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種描繪方法、母版制造方法及描繪裝置。根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式，描繪方法包含取得表示襯底的落差部的配置狀態(tài)的落差部配置信息。所述方法還包含取得表示所述落差部的高度的落差部高度信息。所述方法還包含測定所述襯底的高度。所述方法還包含基于所述取得的落差部配置信息及落差部高度信息、與所述測定出的高度，算出表示與所述襯底的描繪位置對應(yīng)的電子束的射束聚焦值的分布的聚焦圖。所述方法還包含由基于所述算出的焦點(diǎn)圖決定的射束聚焦值的電子束，在所述襯底描繪圖案。

本發(fā)明授權(quán)描繪方法、母版制造方法及描繪裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種描繪方法，包含：取得表示襯底的落差部的配置狀態(tài)的落差部配置信息；取得表示所述落差部的高度的落差部高度信息；測定所述襯底的高度；基于所述取得的落差部配置信息及落差部高度信息、與所述測定出的高度，算出表示與所述襯底的描繪位置對應(yīng)的電子束的射束聚焦值的分布的聚焦圖；及由基于所述算出的聚焦圖決定的射束聚焦值的電子束，在所述襯底描繪圖案；其中 包含所述落差部地進(jìn)行所述高度的測定，且 所述聚焦圖的算出是： 基于包含所述落差部而測定出的高度算出表示所述襯底的高度的分布的第1高度分布， 算出從所述算出的第1高度分布基于所述取得的落差部配置信息及落差部高度信息而去除所述落差部的高度的影響的第2高度分布， 對所述算出的第2高度分布添加所述落差部配置信息及所述落差部高度信息。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人鎧俠股份有限公司，其通訊地址為：日本東京；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。