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龍圖騰網獲悉羅門哈斯電子材料有限責任公司申請的專利光致抗蝕劑組合物及圖案形成方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114063385B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110793744.3，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權光致抗蝕劑組合物及圖案形成方法是由T·卡多拉西亞;J·A·迪西斯托;李忠奉;李明琦;T·馬蘭戈尼;C·吳;劉聰;G·P·普羅科普威克設計研發完成，并于2021-07-13向國家知識產權局提交的專利申請。

本光致抗蝕劑組合物及圖案形成方法在說明書摘要公布了：本文公開了一種光致抗蝕劑組合物，其包含：通過自由基聚合形成的第一聚合物，所述第一聚合物包含由包含烯屬不飽和雙鍵和酸不穩定基團的單體形成的聚合單元；光酸產生劑；具有式1的淬滅劑：其中：R1獨立地是氫原子，C1?C20直鏈、C3?C20支鏈或C3?20環狀烷基——所述烷基除在相對于酰胺CO的α?位置之外任選地包含?O?基團，或C6?C20芳基；R2獨立地是氫原子，C1?C20直鏈、C3?C20支鏈或C3?C20環狀烷基，或C6?C20芳基；L是C1?C20直鏈或C3?C20支鏈的亞烷基，所述亞烷基包含獨立地選自?O?、?S?或?NR3?的一個或多個含雜原子的基團，其中R3選自氫原子或C1?C20直鏈或C3?C20支鏈或環狀烷基；R1、R2和L中的每一個可獨立地是取代或未取代的；其中所述淬滅劑不含可交聯的基團；以及溶劑。

本發明授權光致抗蝕劑組合物及圖案形成方法在權利要求書中公布了：1.一種光致抗蝕劑組合物，其包含： 通過自由基聚合形成的第一聚合物，所述第一聚合物包含由包含烯屬不飽和雙鍵和酸不穩定基團的單體形成的聚合單元； 光酸產生劑； 具有式1的淬滅劑： 其中：R1獨立地是氫原子，C1-C20直鏈、C3-C20支鏈或C3-20環狀烷基，所述烷基除在相對于酰胺CO的α-位置之外任選地包含-O-基團，或C6-C20芳基；R2獨立地是氫原子，C1-C20直鏈、C3-C20支鏈或C3-C20環狀烷基，或C6-C20芳基；L是C1-C20直鏈或C3-C20支鏈的亞烷基，所述亞烷基包含獨立地選自-O-或-S-的一個或多個含雜原子的基團，其中R1、R2和L中的每一個可獨立地是取代或未取代的；其中所述淬滅劑不含可交聯的基團；以及 溶劑。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人羅門哈斯電子材料有限責任公司，其通訊地址為：美國馬薩諸塞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。