聯華電子股份有限公司蔡明泰獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉聯華電子股份有限公司申請的專利一種制作半導體元件的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114121626B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010876084.0,技術領域涉及:H01L21/28;該發明授權一種制作半導體元件的方法是由蔡明泰;謝萌;丁文波設計研發完成,并于2020-08-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種制作半導體元件的方法在說明書摘要公布了:本發明公開一種制作半導體元件的方法。首先形成一柵極結構于基底上,然后形成一源極漏極區域于該柵極結構旁,進行一第一清洗制作工藝,進行一第一快速熱退火制作工藝來去除基底內的氧氣團,形成一金屬層于該源極漏極區域上,再進行一第二快速熱退火制作工藝將該金屬層轉換為一金屬硅化物。
本發明授權一種制作半導體元件的方法在權利要求書中公布了:1.一種制作半導體元件的方法,其特征在于,包含: 形成柵極結構于基底上,該基底包含陷阱層; 形成源極漏極區域于該柵極結構旁; 進行第一清洗制作工藝; 進行第一快速熱退火制作工藝來去除該基底的該陷阱層內的氧氣團; 形成金屬層于該源極漏極區域上;以及 將該金屬層轉換為金屬硅化物, 其中該第一快速熱退火制作工藝是在該源極漏極區域形成后以及形成該金屬硅化物之前進行,其中該第一快速熱退火制作工藝介于攝氏560度至攝氏700度。
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