株式會社V技術小杉純一獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社V技術申請的專利激光退火裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112447506B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202010871334.1，技術領域涉及：H01L21/268；該發明授權激光退火裝置是由小杉純一;楊映保設計研發完成，并于2020-08-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本激光退火裝置在說明書摘要公布了：本發明涉及激光退火裝置及激光退火方法。激光退火裝置具備：光源，其射出連續振蕩的激光；以及光學頭，其將從光源射出的各個激光加工成為收斂的激光束，激光束能夠對應地投影到位于柵極線的上方的改質預定區域內，光學頭在激光束中最收斂的點部位于改質預定區域的非晶硅膜的膜內部的狀態下，在改質預定區域內沿著柵極線延伸的方向相對性地掃描激光束。
本發明授權激光退火裝置在權利要求書中公布了：1.一種激光退火裝置， 在基板上形成有相互平行的多個柵極線，在所述多個柵極線的上層以包覆所述多個柵極線的整體的方式成膜出非晶硅膜， 所述激光退火裝置對于所述非晶硅膜照射連續振蕩激光而將所述非晶硅膜的改質預定區域改質成結晶化膜，其特征在于， 所述激光退火裝置具備： 多個光源，其分別射出連續振蕩的激光；及 光學頭，其將從多個所述光源射出的各個所述激光加工成為收斂的激光束，各個所述激光束能夠依次對應地投影到位于所述柵極線的上方的所述改質預定區域內， 所述光學頭在各個所述激光束中的最收斂的點部位于所述改質預定區域的所述非晶硅膜的膜內部的狀態下，在所述改質預定區域內相對性地掃描所述激光束， 從所述光學頭射出的所述激光束對于所述非晶硅膜的表面沿著規定的直線以恒定的間距排列地投影， 所述光學頭能夠旋轉移動，以使多個激光束的間距與柵極線的間距相等。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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