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龍圖騰網(wǎng)獲悉應(yīng)用材料公司申請的專利用于移動基板的設(shè)備、沉積設(shè)備和處理系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115443346B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080099975.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/56；該發(fā)明授權(quán)用于移動基板的設(shè)備、沉積設(shè)備和處理系統(tǒng)是由沃爾夫?qū)た巳R因;拉爾夫·林登貝格;克勞斯·施勒設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-07-01向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于移動基板的設(shè)備、沉積設(shè)備和處理系統(tǒng)在說明書摘要公布了：描述了一種用于材料沉積的設(shè)備。該設(shè)備包括：具有處理區(qū)域的真空腔室；支撐主體，用于將基板保持在該真空腔室內(nèi)；和掩模系統(tǒng)，被構(gòu)造為用以遮蔽被支撐在該支撐主體上的該基板。該設(shè)備進一步包括：在所述真空腔室內(nèi)的可移動屏蔽組件；和在所述真空腔室內(nèi)的靜態(tài)屏蔽組件，相對于該真空腔室處于固定位置。第一致動器在該支撐主體的處理取向上耦接到該支撐主體、該掩模系統(tǒng)和該可移動屏蔽組件。該第一致動器被構(gòu)造為用以在第一位置與第二位置之間移動該支撐主體、該掩模系統(tǒng)和該可移動屏蔽組件。

本發(fā)明授權(quán)用于移動基板的設(shè)備、沉積設(shè)備和處理系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于材料沉積的設(shè)備100，所述設(shè)備包括： 真空腔室110，所述真空腔室具有處理區(qū)域，用于處理具有1m2或更大的表面的基板； 支撐主體140，所述支撐主體用于將所述基板保持在所述真空腔室110內(nèi)； 掩模系統(tǒng)，所述掩模系統(tǒng)被構(gòu)造為用以遮蔽被支撐在所述支撐主體上的所述基板； 可移動屏蔽組件，所述可移動屏蔽組件在所述真空腔室內(nèi)； 靜態(tài)屏蔽組件，所述靜態(tài)屏蔽組件在所述真空腔室內(nèi)，相對于所述真空腔室處于固定位置，其中所述可移動屏蔽組件的一端放置在所述掩模系統(tǒng)的前面，并且所述可移動屏蔽組件在所述靜態(tài)屏蔽組件的后面延伸；以及 第一致動器，所述第一致動器在所述支撐主體的處理取向上耦接到所述支撐主體、所述掩模系統(tǒng)和所述可移動屏蔽組件，所述第一致動器被構(gòu)造為用以在第一位置與第二位置之間移動所述支撐主體、所述掩模系統(tǒng)和所述可移動屏蔽組件， 其中當所述支撐主體和所述掩模系統(tǒng)在所述第一位置與所述第二位置之間移動時，所述可移動屏蔽組件相對于所述靜態(tài)屏蔽組件的前面暴露的長度改變； 所述設(shè)備進一步包括： 第二致動器，所述第二致動器被構(gòu)造為用以在裝載取向與所述處理取向之間將所述支撐主體移動一個角度。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人應(yīng)用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。