ASML荷蘭有限公司M·A·范德凱克霍夫獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利光刻設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114080566B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080049944.1，技術領域涉及：G03F1/82；該發明授權光刻設備是由M·A·范德凱克霍夫;S·阿坎塔;J·H·J·穆爾斯;V·Y·巴寧;S·M·J·詹森斯;A·尼基佩洛維設計研發完成，并于2020-06-05向國家知識產權局提交的專利申請。
本光刻設備在說明書摘要公布了：一種光刻設備包括：用于支撐襯底的夾持表面，其中夾持表面的屬性由至少一個夾持表面參數限定，并且其中夾持表面的屬性已被選擇為表現出低磨損；夾持設備，用于致動夾持表面與襯底之間的夾持操作，其中夾持操作至少部分地由夾持表面與襯底之間的至少一個界面特性限定；以及處理站，能夠操作以根據夾持表面參數和限定襯底的第二屬性的至少一個襯底表面參數，對襯底的第一屬性施加調整，來優化特定夾持操作的至少一個界面特性。
本發明授權光刻設備在權利要求書中公布了：1.一種光刻設備，包括： 夾持表面，用于支撐襯底，其中所述夾持表面的屬性由至少一個夾持表面參數限定，并且其中所述夾持表面的屬性已被選擇為表現出低磨損； 夾持設備，用于致動所述夾持表面與所述襯底之間的夾持操作，其中所述夾持操作至少部分地由所述夾持表面與所述襯底之間的至少一個界面特性限定；以及 處理站，能夠操作以對所述襯底的第一屬性施加調整，來優化特定夾持操作的至少一個界面特性，所述調整根據所述夾持表面參數和限定所述襯底的第二屬性的至少一個襯底表面參數， 所述調整包括以下項中的一個或多個： 向所述襯底施加圖案特征； 向所述襯底施加表面紋理； 從所述襯底去除顆粒； 向所述襯底施加電荷；以及 降低所述襯底的濕度。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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