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      芝浦機(jī)械電子裝置株式會(huì)社黒巖杏太獲國(guó)家專利權(quán)

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      龍圖騰網(wǎng)獲悉芝浦機(jī)械電子裝置株式會(huì)社申請(qǐng)的專利有機(jī)膜形成裝置、及有機(jī)膜形成裝置的清潔方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115116887B

      龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202210055954.7,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01L21/67;該發(fā)明授權(quán)有機(jī)膜形成裝置、及有機(jī)膜形成裝置的清潔方法是由黒巖杏太;望月洋輔;今岡裕一;小林憲明設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-01-18向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

      有機(jī)膜形成裝置、及有機(jī)膜形成裝置的清潔方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:本發(fā)明提供一種能夠充分去除處于腔室的內(nèi)部的異物的有機(jī)膜形成裝置、及有機(jī)膜形成裝置的清潔方法。實(shí)施方式的有機(jī)膜形成裝置包括:腔室,具有搬入或搬出工件的開(kāi)口,能夠維持較大氣壓進(jìn)一步經(jīng)減壓的氣體環(huán)境;門(mén),能夠使所述腔室的開(kāi)口開(kāi)閉;排氣部,能夠?qū)λ銮皇业膬?nèi)部進(jìn)行排氣;支撐部,設(shè)置于所述腔室的內(nèi)部,能夠支撐所述工件;加熱部,設(shè)置于所述腔室的內(nèi)部,能夠?qū)⑺龉ぜ訜幔灰约爸辽僖粋€(gè)噴嘴,設(shè)置于所述腔室的內(nèi)部,能夠向所述腔室的開(kāi)口供給清潔氣體。

      本發(fā)明授權(quán)有機(jī)膜形成裝置、及有機(jī)膜形成裝置的清潔方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種有機(jī)膜形成裝置,包括: 腔室,具有搬入或搬出工件的開(kāi)口,能夠維持較大氣壓進(jìn)一步經(jīng)減壓的氣體環(huán)境; 門(mén),能夠使所述腔室的開(kāi)口開(kāi)閉; 排氣部,能夠?qū)λ銮皇覂?nèi)部進(jìn)行排氣; 支撐部,設(shè)置于所述腔室的內(nèi)部,能夠支撐所述工件; 加熱部,設(shè)置于所述腔室的內(nèi)部,能夠?qū)⑺龉ぜ訜幔?至少一個(gè)噴嘴,設(shè)置于所述腔室的內(nèi)部,能夠向所述腔室的開(kāi)口供給清潔氣體; 氣體控制部,連接于所述噴嘴,能夠控制所述清潔氣體的供給與供給的停止;以及 控制器,能夠控制所述氣體控制部, 在將所述腔室的開(kāi)口開(kāi)放時(shí),所述控制器控制所述氣體控制部,而使所述清潔氣體從所述噴嘴向所述腔室的開(kāi)口流動(dòng)。

      如需購(gòu)買(mǎi)、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人芝浦機(jī)械電子裝置株式會(huì)社,其通訊地址為:日本神奈川縣橫浜市榮區(qū)笠間二丁目5番1號(hào)(郵遞區(qū)號(hào):247-8610);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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