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龍圖騰網獲悉羅門哈斯電子材料有限責任公司申請的專利光致抗蝕劑組合物及圖案形成方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114442426B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111102905.6，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權光致抗蝕劑組合物及圖案形成方法是由T·馬蘭戈尼;E·阿卡德;J·W·薩克萊;J·F·卡梅倫;侯希森;李忠奉設計研發完成，并于2021-09-17向國家知識產權局提交的專利申請。

本光致抗蝕劑組合物及圖案形成方法在說明書摘要公布了：公開了一種光致抗蝕劑組合物，其包含：包含具有酸不穩定基團的重復單元的酸敏感聚合物；包含陰離子和陽離子的碘鎓鹽，所述碘鎓鹽具有式1：其中Z?是有機陰離子；Ar1是取代或未取代的包含呋喃雜環的C4?60雜芳基；并且R1是如本文提供的取代或未取代的烴基，其中所述陽離子任選地包含酸不穩定基團，其中Ar1和R1任選地經由單鍵或一個或多個二價連接基團彼此連接形成環，并且其中所述碘鎓鹽任選地通過Ar1或其取代基作為側基共價鍵合至聚合物，所述碘鎓鹽任選地通過R1或其取代基作為側基共價鍵合至聚合物，或者所述碘鎓鹽任選地通過Z?作為側基共價鍵合至聚合物；以及溶劑。

本發明授權光致抗蝕劑組合物及圖案形成方法在權利要求書中公布了：1.一種光致抗蝕劑組合物，其包含： 包含具有酸不穩定基團的重復單元的酸敏感聚合物； 包含陰離子和陽離子的碘鎓鹽，所述陽離子包括單個碘鎓陽離子，所述碘鎓鹽具有式1： 其中， Z-是有機陰離子，其包含選自以下的基團：磺酸根、甲基化物陰離子、磺酰胺陰離子、磺酰亞胺陰離子、氨基磺酸根、酚鹽、或羧酸根； Ar1是取代或未取代的包含呋喃雜環的C4-60雜芳基；并且 R1是C1-20烷基、C1-20雜烷基、C3-20環烷基、C2-20雜環烷基、C2-20烯基、C2-20雜烯基、C6-30芳基、C4-30雜芳基、C7-20芳基烷基、或C4-20雜芳基烷基，其中的每一個是取代或未取代的， 其中所述陽離子任選地包含酸不穩定基團， 其中Ar1和R1任選地經由單鍵或一個或多個二價連接基團彼此連接形成環，并且 其中所述碘鎓鹽任選地通過Ar1或通過其取代基作為側基共價鍵合至聚合物，所述碘鎓鹽任選地通過R1或通過其取代基作為側基共價鍵合至聚合物，或者所述碘鎓鹽任選地通過Z-作為側基共價鍵合至聚合物；以及 溶劑。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人羅門哈斯電子材料有限責任公司，其通訊地址為：美國馬薩諸塞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。