中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司陳術獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司申請的專利光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115993753B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111216495.8，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質是由陳術;嚴中穩設計研發完成，并于2021-10-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質在說明書摘要公布了：一種光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質，修正方法包括：提供設計版圖，包括多個設計圖形；獲取對應設計版圖的網格狀的初始邊界線，初始邊界線經過設計圖形，且初始邊界線與經過的設計圖形具有至少兩個第一交點；在初始邊界線上獲取分割點，分割點位于初始邊界線經過的設計圖形的兩側、并與經過的設計圖形的第一交點具有預設距離，位于相鄰分割點之間、且經過設計圖形的初始邊界線作為第一邊界線，剩余初始邊界線作為第二邊界線；在設計圖形外側形成第三邊界線，第三邊界線通過分割點與第二邊界線交替首尾相接，第三邊界線和第二邊界線構成目標邊界線。本發明有利于減少設計圖形因被分割而產生跳變現象的概率。
本發明授權光學鄰近修正方法及系統、掩膜版、設備及存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種光學鄰近修正方法，其特征在于，包括： 提供設計版圖，所述設計版圖包括多個設計圖形； 獲取對應所述設計版圖的網格狀的初始邊界線，所述網格狀的初始邊界線經過所述設計圖形，且所述初始邊界線與經過的所述設計圖形具有至少兩個第一交點； 在所述初始邊界線上獲取分割點，所述分割點位于所述初始邊界線經過的所述設計圖形的兩側、并與經過的所述設計圖形的所述第一交點具有預設距離，位于相鄰所述分割點之間、且經過所述設計圖形的初始邊界線作為第一邊界線，剩余初始邊界線作為第二邊界線； 在所述設計圖形外側形成第三邊界線，所述第三邊界線通過所述分割點與所述第二邊界線交替首尾相接，所述第三邊界線和第二邊界線構成目標邊界線，所述目標邊界線將所述設計版圖分為多個子區域。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區中國（上海）自由貿易試驗區張江路18號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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