漢陽大學校產學協力團鄭在景獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉漢陽大學校產學協力團申請的專利包括結晶IZTO氧化物半導體的薄膜晶體管及其制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115088083B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180014080.4,技術領域涉及:H10D30/67;該發明授權包括結晶IZTO氧化物半導體的薄膜晶體管及其制造方法是由鄭在景;溫努日;金洸福設計研發完成,并于2021-02-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本包括結晶IZTO氧化物半導體的薄膜晶體管及其制造方法在說明書摘要公布了:提供了一種結晶IZTO氧化物半導體和包括該結晶IZTO氧化物半導體的薄膜晶體管。該薄膜晶體管包括:柵極;與柵極的上部或下部重疊并具有六方晶粒的結晶In?Zn?Sn氧化物IZTO溝道層;設置在柵極和IZTO溝道層之間的柵絕緣膜,以及連接至IZTO溝道層的各端的源極和漏極。
本發明授權包括結晶IZTO氧化物半導體的薄膜晶體管及其制造方法在權利要求書中公布了:1.一種薄膜晶體管,包括: 柵極; 結晶In-Zn-Sn氧化物(IZTO)溝道層,所述結晶In-Zn-Sn氧化物(IZTO)溝道層與所述柵極的上部或下部重疊并具有六方晶粒; 柵絕緣層,所述柵絕緣層設置在所述柵極和所述IZTO溝道層之間;以及 源極和漏極,所述源極和漏極分別連接至所述IZTO溝道層的兩端, 其中所述六方晶粒是具有ZnOkIn2O3相的晶粒,其中k為3至11的整數,以及 其中所述IZTO溝道層還具有作為亞固相的xZnIn2O4-1-xZn2SnO4,xZnIn2O4-1-xZn2SnO4為尖晶石相,其中0x0.45。
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