浙江清華柔性電子技術(shù)研究院朱海斌獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉浙江清華柔性電子技術(shù)研究院申請(qǐng)的專利薄膜沖擊測(cè)試設(shè)備和測(cè)試方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN111562185B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-02發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202010440481.3,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01N3/307;該發(fā)明授權(quán)薄膜沖擊測(cè)試設(shè)備和測(cè)試方法是由朱海斌;何志峰;馬少鵬設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2020-05-22向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本薄膜沖擊測(cè)試設(shè)備和測(cè)試方法在說(shuō)明書摘要公布了:本申請(qǐng)涉及一種薄膜沖擊測(cè)試設(shè)備和測(cè)試方法,屬于材料測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域,不同于傳統(tǒng)鼓泡儀的準(zhǔn)靜態(tài)離面加載,通過(guò)閥門可以對(duì)壓縮氣體進(jìn)行精確控制,通過(guò)瞬時(shí)釋放不同壓力條件下的壓縮氣體實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜進(jìn)行不同加載率下的離面沖擊加載,通過(guò)壓力計(jì)和變形測(cè)量系統(tǒng)得到不同加載率條件下的材料力學(xué)參數(shù),對(duì)薄膜材料進(jìn)行動(dòng)態(tài)應(yīng)力測(cè)試,表征材料在動(dòng)態(tài)非線性階段的變形行為,得到準(zhǔn)確的薄膜材料參數(shù)。
本發(fā)明授權(quán)薄膜沖擊測(cè)試設(shè)備和測(cè)試方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種薄膜沖擊測(cè)試設(shè)備,其特征在于,所述設(shè)備包括第一壓力計(jì)、變形測(cè)量系統(tǒng)和依次連接的儲(chǔ)氣室、第一閥門和壓力腔體;其中,所述第一壓力計(jì)與所述壓力腔體連接; 所述儲(chǔ)氣室用于存儲(chǔ)壓縮氣體; 所述第一閥門用于控制所述儲(chǔ)氣室中的壓縮氣體瞬時(shí)釋放流入所述壓力腔體,對(duì)所述壓力腔體的薄膜進(jìn)行沖擊加載,其中,所述薄膜密封設(shè)置在所述壓力腔體的開(kāi)口處; 所述第一壓力計(jì)用于檢測(cè)所述壓力腔體的氣壓; 所述變形測(cè)量系統(tǒng)用于對(duì)所述薄膜進(jìn)行沖擊測(cè)量; 所述設(shè)備還包括氣體壓縮機(jī),所述氣體壓縮機(jī)與所述儲(chǔ)氣室相連,所述氣體壓縮機(jī)用于制備壓縮氣體,并將所述壓縮氣體轉(zhuǎn)入所述儲(chǔ)氣室; 所述儲(chǔ)氣室包括氣瓶、第二閥門和三通器: 所述第二閥門連接在所述氣體壓縮機(jī)的出氣口和所述三通器的第一接口之間,所述三通器的第二接口與所述氣瓶的瓶口連接,所述三通器的第三接口連接所述第一閥門; 所述第二閥門用于控制所述壓縮氣體轉(zhuǎn)入所述氣瓶; 所述儲(chǔ)氣室還包括連接在所述氣體壓縮機(jī)和所述第二閥門之間的壓力調(diào)節(jié)器,以及與所述第一接口連接的第二壓力計(jì); 所述壓力調(diào)節(jié)器用于調(diào)節(jié)所述壓縮氣體的氣體流量; 所述第二壓力計(jì)用于檢測(cè)所述氣瓶的氣壓; 所述設(shè)備還包括控制終端,所述控制終端分別與所述第一閥門、所述第二閥門、所述第一壓力計(jì)、所述第二壓力計(jì)連接; 所述控制終端用于控制所述第一閥門和所述第二閥門的開(kāi)啟和關(guān)閉,以及獲取所述第一壓力計(jì)、所述第二壓力計(jì)的壓力值; 所述控制終端還與所述變形測(cè)量系統(tǒng)連接,用于控制所述變形測(cè)量系統(tǒng)對(duì)所述薄膜進(jìn)行沖擊測(cè)量; 所述控制終端還用于采用虛場(chǎng)法根據(jù)變形測(cè)量結(jié)果和所述壓力腔體的氣壓獲取所述薄膜的本構(gòu)參數(shù);其中,所述薄膜的虛位移場(chǎng)定義為: 其中ux*,uy*,uz*為三個(gè)方向的虛位移,x,y,z分別為測(cè)點(diǎn)的三維坐標(biāo),R為所述薄膜的半徑。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人浙江清華柔性電子技術(shù)研究院,其通訊地址為:314006 浙江省嘉興市南湖區(qū)浙江清華長(zhǎng)三角研究院B座15層;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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