富士膠片株式會社梅澤朋一獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉富士膠片株式會社申請的專利圖案原盤、模具的制造方法及基體的制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115503159B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-05發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211258427.2，技術領域涉及：B29C33/38；該發明授權圖案原盤、模具的制造方法及基體的制造方法是由梅澤朋一設計研發完成，并于2019-05-17向國家知識產權局提交的專利申請。
本圖案原盤、模具的制造方法及基體的制造方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種圖案原盤、模具的制造方法及基體的制造方法，其中，該圖案原盤在表面具有微細的凹凸圖案，該基體在表面具備凹凸結構，該圖案原盤具備基體和設置在基體的一個表面上的凹凸結構層，基體的至少一個表面由具有蝕刻停止功能的材料制成，基體暴露于凹凸結構層的凹部中的至少一部分凹部的底部，凹凸圖案中，與一個表面垂直的方向上的、凹凸圖案的各凹部的底點位置的偏差為20nm以下。
本發明授權圖案原盤、模具的制造方法及基體的制造方法在權利要求書中公布了：1.一種圖案原盤，其在表面具有微細的凹凸圖案， 該圖案原盤具備基體和凹凸結構層，該凹凸結構層設置在該基體的一個面上、且包含沿著所述凹凸圖案的多個凸部以及多個凹部， 所述基體的至少所述一個面由具有蝕刻停止功能的材料制成， 所述基體暴露于所述凹凸結構層的凹部中的至少一部分凹部的底部， 在所述凹凸圖案中，與所述一個面垂直的方向上的、所述凹凸圖案的各凹部的底點位置的偏差為20nm以下， 所述凹凸結構層為硅的含量為50原子％以上的層，所述基體的所述一個面為將鎳作為主要成分的層。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人富士膠片株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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