江蘇全真光學科技股份有限公司李軍獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉江蘇全真光學科技股份有限公司申請的專利一種鍍膜偏光鏡片及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115903270B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211252815.X,技術領域涉及:G02C7/12;該發明授權一種鍍膜偏光鏡片及其制備方法是由李軍;李定彥設計研發完成,并于2022-10-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種鍍膜偏光鏡片及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種鍍膜偏光鏡片及其制備方法,所述鍍膜偏光鏡片包括基片,所述基片的內外兩側表面均設有加硬層,以所述基片外側表面的加硬層向外依次設有鍍膜層、激光雕刻層,所述激光雕刻層為平行線條形狀激光刻痕。本發明提供的鍍膜偏光鏡片,偏光性能好,耐久性好,適用于多種鏡片基材,生產工藝簡單,降低了制造成本,可完全替代傳統的帶有PVA偏光膜,或帶有TAC、PET、PMMA等其他保護層以及PVA膜的偏光鏡片。
本發明授權一種鍍膜偏光鏡片及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種鍍膜偏光鏡片,其特征在于,包括基片,所述基片的內外兩側表面均設有加硬層,以所述基片外側表面的加硬層向外依次設有鍍膜層、激光雕刻層,所述鍍膜層由內向外依次包括8-20nm金屬鉻層、35-45nm二氧化硅層、60-110nm氧化鈦層、35-45nm二氧化硅層、100-180nm氧化鈦層、60-100nm二氧化硅層,所述激光雕刻層為平行線條形狀激光刻痕;且所述平行線條形狀激光刻痕的筆寬度為20nm,間隔寬度為20nm; 或,所述鍍膜層由內向外依次包括20-40nm金屬鉻層、5-15nm二氧化硅層、20-40nm金屬鉻層、5-15nm二氧化硅層、20-40nm金屬鉻層、5-15nm二氧化硅層、20-40nm金屬鉻層、60-100nm二氧化硅層。
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