北京華卓精科科技股份有限公司焦健獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京華卓精科科技股份有限公司申請的專利氣浴裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115164730B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210666842.5，技術領域涉及：G01B11/02；該發明授權氣浴裝置是由焦健;李懷斌;付大為設計研發完成，并于2022-06-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本氣浴裝置在說明書摘要公布了：本發明屬于光刻技術領域，尤其涉及一種氣浴裝置。本發明的氣浴裝置，包括：整流噴射單元，整流噴射單元的第一面上分別設置有用于噴射氣流的第一環形噴射口和第二環形噴射口，第二環形噴射口圍繞第一環形噴射口的外周設置，第一環形噴射口的內側設置有用于容納的讀數頭的安裝區域，其中，第一環形噴射口與第二環形噴射口噴射的氣流的流速不同。本發明的氣浴裝置是一種局部氣浴裝置，是針對讀數頭及其光路所包絡區域進行二次的環境控制手段，通過兩個噴射口分別噴射不同流速的氣流，從而形成內外兩層氣流，在讀數頭周圍產生一個相對靜壓的區域，可有效抵擋運動臺高速運動產生的擾動氣流影響，保證平面光柵系統的測量精度。
本發明授權氣浴裝置在權利要求書中公布了：1.一種氣浴裝置，其特征在于，包括：整流噴射單元，所述整流噴射單元包括內部形成有緩沖腔的緩沖層、以及與所述緩沖層層疊設置的噴射層；緩沖層背離所述噴射層的側壁上形成有與緩沖腔連通的緩沖入口； 所述噴射層上形成有分別與所述緩沖腔連通并用于噴射氣流的第一環形噴射口和第二環形噴射口，所述第二環形噴射口圍繞所述第一環形噴射口的外周設置，所述第一環形噴射口的內側設置有用于容納的讀數頭的安裝區域， 其中，所述第一環形噴射口與所述第二環形噴射口的徑向寬度不同，以使得噴射的氣流的流速和流徑不同。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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