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龍圖騰網(wǎng)獲悉細(xì)美事有限公司申請(qǐng)的專利用于處理基板的方法及設(shè)備獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115083955B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-08發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202210239103.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)用于處理基板的方法及設(shè)備是由崔海圓;A·科里阿金;元俊皓;金旻祐;崔基熏;金應(yīng)秀;金泰熙;許弼覠;李章晉;成進(jìn)榮設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-03-11向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本用于處理基板的方法及設(shè)備在說(shuō)明書摘要公布了：本發(fā)明涉及用于處理基板的方法及設(shè)備。本發(fā)明構(gòu)思提供一種用于處理基板的方法。用于處理基板的方法包含：加壓步驟，用于在將基板放入內(nèi)部空間之后，通過向內(nèi)部空間供應(yīng)處理流體來(lái)增大腔室的內(nèi)部空間的壓力；流動(dòng)步驟，用于通過將處理流體供應(yīng)給內(nèi)部空間及從內(nèi)部空間排放處理流體的組合來(lái)產(chǎn)生處理流體的流動(dòng)；及減壓步驟，通過從內(nèi)部空間排放處理流體來(lái)降低內(nèi)部空間的壓力，且加壓步驟包含：底面供應(yīng)工藝，通過將處理流體供應(yīng)給被放入內(nèi)部空間中的基板的背面來(lái)增大內(nèi)部空間的壓力；及頂面供應(yīng)工藝，通過向放入到內(nèi)部空間中的基板的頂面供應(yīng)處理流體來(lái)增大內(nèi)部空間的壓力。

本發(fā)明授權(quán)用于處理基板的方法及設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于處理基板的方法，所述方法包含以下步驟： 加壓步驟，所述加壓步驟用于在將所述基板放入到內(nèi)部空間之后，通過向所述內(nèi)部空間供應(yīng)處理流體來(lái)增大腔室的所述內(nèi)部空間的壓力； 流動(dòng)步驟，所述流動(dòng)步驟用于通過將所述處理流體供應(yīng)給所述內(nèi)部空間及從所述內(nèi)部空間排放所述處理流體的組合來(lái)產(chǎn)生所述處理流體的流動(dòng)；及 減壓步驟，所述減壓步驟通過從所述內(nèi)部空間排放所述處理流體來(lái)降低所述內(nèi)部空間的所述壓力， 其中，所述加壓步驟包含以下步驟： 底面供應(yīng)工藝，所述底面供應(yīng)工藝通過將所述處理流體供應(yīng)給被放入到所述內(nèi)部空間中的所述基板的背面來(lái)增大所述內(nèi)部空間的所述壓力；及 頂面供應(yīng)工藝，所述頂面供應(yīng)工藝通過將所述處理流體供應(yīng)給被放入到所述內(nèi)部空間中的所述基板的頂面來(lái)增大所述內(nèi)部空間的所述壓力； 其中，所述加壓步驟進(jìn)一步包含排放工藝，所述排放工藝用于在所述頂面供應(yīng)工藝之后排放供應(yīng)給所述內(nèi)部空間的所述處理流體；及其中，所述頂面供應(yīng)工藝及所述排放工藝連續(xù)地執(zhí)行；及 其中，所述加壓步驟將所述內(nèi)部空間的所述壓力增大至預(yù)設(shè)壓力，且在所述內(nèi)部空間的所述壓力達(dá)到所述預(yù)設(shè)壓力之前執(zhí)行所述頂面供應(yīng)工藝及所述排放工藝。

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