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龍圖騰網(wǎng)獲悉三星顯示有限公司申請的專利沉積用掩模及其制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112176280B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-08發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號(hào)為：202010243216.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/04；該發(fā)明授權(quán)沉積用掩模及其制造方法是由韓政洹設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-03-31向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本沉積用掩模及其制造方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供沉積用掩模及其制造方法。沉積用掩模包括：阻斷部，包括主阻斷部件和輔助阻斷部件而構(gòu)成；以及多個(gè)開口部，布置在所述阻斷部的內(nèi)部，并包括第一開口部和第二開口部；其中，所述阻斷部包括：一面；另一面，與所述一面對向；內(nèi)側(cè)面，向所述開口部暴露；一側(cè)端部，位于所述一面和所述內(nèi)側(cè)面的交叉點(diǎn)，并且包括銳角的尖端形狀；以及另一側(cè)端部，位于所述另一面和所述內(nèi)側(cè)面的交叉點(diǎn)，所述第一開口部周圍的所述阻斷部的所述一側(cè)端部包括包含所述輔助阻斷部件而構(gòu)成的第一端部。

本發(fā)明授權(quán)沉積用掩模及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種沉積用掩模的制造方法，包括如下步驟： 供應(yīng)包括主阻斷部件和布置在所述主阻斷部件內(nèi)部的多個(gè)開口部的掩模部件；以及 在至少一部分所述開口部的周圍的所述主阻斷部件上形成輔助阻斷部件， 其中，所述開口部包括正常開口部和受損開口部，形成所述輔助阻斷部件的步驟是在所述受損開口部周圍的所述主阻斷部件上形成所述輔助阻斷部件的步驟， 形成所述輔助阻斷部件的步驟是與所述正常開口部的形狀相同地形成所述受損開口部的形狀的步驟， 其中，形成所述輔助阻斷部件的步驟包括如下步驟： 將所述掩模部件布置在支撐臺(tái)上； 檢測所述受損開口部的受損部分的缺失量； 根據(jù)所述缺失量來決定包括輔助阻斷部件用物質(zhì)的墨水的投入量； 向所述受損開口部內(nèi)供應(yīng)具有與所述缺失量對應(yīng)的量的墨水； 利用具有所述正常開口部的立體形狀且包括彈性物質(zhì)的加壓結(jié)構(gòu)體對所述受損開口部加壓，以使被供應(yīng)的所述墨水填充所述受損部分；以及 將所述輔助阻斷部件用物質(zhì)固化。

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