大洲電子材料株式會社吳性旻獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉大洲電子材料株式會社申請的專利用于鋰二次電池負極材料的硅復合氧化物及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113410446B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202110685331.3,技術領域涉及:H01M4/36;該發明授權用于鋰二次電池負極材料的硅復合氧化物及其制備方法是由吳性旻;金壯翰;金多恩設計研發完成,并于2017-03-28向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于鋰二次電池負極材料的硅復合氧化物及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明涉及一種用于鋰二次電池負極材料的硅復合氧化物及其制備方法,更詳細地涉及一種通過使SiSiO2原料粉末混合體和金屬鎂進行氣相反應,從而在硅氧化物SiOX,0<x<2中包含硅粒子、MgSiO3頑輝石和Mg2SiO4硅酸鎂石晶體,并且表面由碳被覆的用于鋰二次電池負極材料的硅復合氧化物及其制備方法。
本發明授權用于鋰二次電池負極材料的硅復合氧化物及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種用于二次電池負極材料的硅復合氧化物,所述硅復合氧化物選自Si-MgSiO3-SiOx-C系硅復合氧化物和或Si-MgSiO3-Mg2SiO4-SiOx-C系硅復合氧化物,其中,在硅氧化物中包含硅粒子和MgSiO3晶體, 其中硅粒子的晶體尺寸為1至25nm;以及0<x<2;并且所述硅復合氧化物表面上被覆有碳覆膜。
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