洛陽理工學院于仕輝獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉洛陽理工學院申請的專利一種高穩定ITO導電玻璃及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN120328874B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510822946.4,技術領域涉及:C03C17/34;該發明授權一種高穩定ITO導電玻璃及其制備方法是由于仕輝;楊子楓;趙樂;楊盼;李千慧設計研發完成,并于2025-06-19向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種高穩定ITO導電玻璃及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明涉及功能玻璃技術領域,具體是一種高穩定ITO導電玻璃及其制備方法。先在玻璃基底上沉積ITO薄膜,再制備苯丙乳液涂層并干燥,涂層形成由網線和網孔構成的網狀開裂模板,再在其上制備ATO薄膜,ATO薄膜一部分形成在填充于網孔內的苯丙薄膜的表面,另一部分形成在網線內,之后再制備ZnO薄膜,將ATO薄膜及其表面的ZnO薄膜記為ATOZnO薄膜,超聲清洗后苯丙薄膜去除,留下位于網線內的ATOZnO薄膜,網孔內的ITO薄膜處于裸露狀態,再制備與上述ATO薄膜厚度一致的Si3N4薄膜,然后將樣品放入氫氧化鈉溶液中,氫氧化鈉與ZnO薄膜反應完畢,則ZnO薄膜及其表面的Si3N4隨之脫落,網孔內形成的Si3N4薄膜保持不變,網線內留下的是ATO薄膜,最后制備一層ATO薄膜,即得到高穩定ITO導電玻璃。
本發明授權一種高穩定ITO導電玻璃及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種高穩定ITO導電玻璃的制備方法,其特征在于,具體包括以下步驟: (1)將玻璃基底清洗干凈后,利用磁控濺射技術在其表面制備一層ITO薄膜; (2)利用滾涂方法,在步驟(1)得到的ITO薄膜的表面制備一層厚度為5μm-10μm的苯丙乳液涂層,干燥后,苯丙乳液涂層形成為網狀開裂模板,上述網狀開裂模板由多條相互交叉的網線和網孔構成,網孔位于相鄰的網線之間且網孔內填充苯丙薄膜,位于網線內的ITO薄膜處于裸露狀態; (3)利用磁控濺射鍍膜技術在步驟(2)得到的網狀開裂模板表面制備ATO薄膜,ATO薄膜一部分形成在苯丙薄膜表面,一部分形成在網線內; (4)利用磁控濺射鍍膜技術在步驟(3)所得到的ATO薄膜的表面制備ZnO薄膜,將ATO薄膜及其表面的ZnO薄膜記為ATOZnO薄膜; (5)將步驟(4)得到的樣品放入丙酮中超聲清洗,則填充于網孔內的苯丙薄膜被去除,即網孔內的ITO薄膜處于裸露狀態,位于網線內的ATOZnO薄膜凸起在ITO薄膜的表面; (6)利用磁控濺射鍍膜技術在步驟(5)所得樣品的表面制備Si3N4薄膜,則Si3N4薄膜的一部分形成在網孔內,另一部分形成在網線內的ATOZnO薄膜的表面,Si3N4薄膜的厚度與步驟(3)中制備的ATO薄膜的厚度一致; (7)將步驟(6)所得樣品放入氫氧化鈉水溶液中,反應20-30分鐘; (8)利用磁控濺射鍍膜技術在步驟(7)所得樣品的表面制備一層ATO薄膜,所得到的樣品即為高穩定ITO導電玻璃。
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