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龍圖騰網獲悉華能瀾滄江水電股份有限公司;武漢大學申請的專利一種復雜背景下的裂縫提取方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115797649B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211313293.X，技術領域涉及：G06V10/44；該發明授權一種復雜背景下的裂縫提取方法是由馬洪琪;張永軍;陸懿新;肖海斌;周偉;馬剛;龐博慧設計研發完成，并于2022-10-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種復雜背景下的裂縫提取方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種復雜背景下的裂縫提取方法，包括：1.構建裂縫測度并對圖像進行二值化；2.細化裂縫二值圖，生成骨架圖，并提取關鍵點；3.用直線將關鍵點相連生成裂縫結構線圖；4.根據裂縫長度、方向、像素相似度等條件將距離較近的裂縫連接；5.剔除骨架長度較短的裂縫；6.根據相鄰結構線的方位角、結構線長度等特征對結構圖進行分級，提取主結構線和各次級結構線；7.將上級結構線作為基準，以上下級結構線的交點為分界，對上級結構線和下級結構線周圍的像素做假設檢驗，像素分布具有一致性時合并；8.對分級裂縫進行篩選，剔除不符合條件的假裂縫，最終提取圖像中的裂縫。與三種不同的經典或最先進的算法進行對比，本發明的裂縫提取效果更優。

本發明授權一種復雜背景下的裂縫提取方法在權利要求書中公布了：1.一種復雜背景下的裂縫提取方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟1，首先對裂縫圖像進行二值化處理，計算每個像素的裂縫測度，對裂縫測度大于0的像素，以像素為中點，以其裂縫測度的寬度為長，沿寬度方向畫直線，并將直線上的像素點賦值為“1”，把其余未賦值的像素賦值為“0”，生成二值化的裂縫映射圖； 步驟1中裂縫測度的詳細定義如下： 設高斯函數及其一次、二次導數為： 其中，高斯導數的歸一化形式表示為： 由此，可定義兩個二維基： 其中x和y是像素坐標，根據以上兩個基，可定義兩個對稱分子： 其中， t＝[x,y]T，t0＝[x0，y0]T為坐標偏移量，b＝0.0001為坐標縮放因子，j為尺度因子，θ為對稱分子的角度，α和ρ為待設置參數；令函數為 fex＝Geajx，8 設為函數fex在j＝0時兩個零點的距離，并稱w0為j＝0時的裂縫測度的寬度；設wj＝w0×a-j為式8在不同j值所對應的裂縫測度的寬度；設為灰度圖I與對稱分子卷積值最大時對應的j和θ，其中，J是j的集合，Θ是角度θ的集合；同時，定義一個隨wj變化而變化的閾值參數為： 其中，是j＝j*時的寬度w的值，則可以定義裂縫測度為： 其中，jo是尺度參數j的偏移量，β為軟閾值，裂縫與背景的對比度越大，β越大； 步驟2，將裂縫映射圖細化為1像素寬度的裂縫骨架圖； 步驟3，提取裂縫骨架圖的關鍵點，包括交點和端點，并根據原有連通性用結構線將關鍵點相連以生成裂縫結構線圖； 步驟4，搜尋所有裂縫的端點附近從屬于另一裂縫的關鍵點，將距離小于dthr個像素、和端點的連線與端點所在結構線的夾角τ小于π-τthr的關鍵點與該端點進行假設檢驗，兩者周圍像素點灰度分布一致時相連； 步驟5，剔除連接后骨架長度小于Lthr的裂縫； 步驟6，以結構線為路徑，計算各單獨裂縫的關鍵點之間的最短路徑；在最短路徑條件下，以每級結構線的路徑長度最長且相鄰結構線之間的夾角τ小于π-τthr為分級條件，對各單獨裂縫的結構線進行分級； 步驟7，在各分級結構線的交點處進行假設檢驗，合并檢驗結果為真的兩條不同級但具有相同交點的結構線； 步驟8，提取各級結構線對應的裂縫像素，稱為分級裂縫，根據分級裂縫與其外接矩形的面積比和外接矩形的長寬比進行篩選，剔除面積比大于Sthr且長寬比小于Athr的裂縫，并獲得最終裂縫提取結果。

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