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龍圖騰網(wǎng)獲悉中核四0四有限公司申請的專利一種基于能譜分析消除基體元素干擾的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115356360B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202210873532.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01N23/223；該發(fā)明授權(quán)一種基于能譜分析消除基體元素干擾的方法是由張石凱;張廣軍;張慶桂;那娟娟;王濤;楊興旺;朱勇;劉鑫設(shè)計研發(fā)完成，并于2022-07-22向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種基于能譜分析消除基體元素干擾的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及核分析技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種基于能譜分析消除基體元素干擾的方法，包括以下步驟：第一步：測量基體元素A的系列標(biāo)準(zhǔn)溶液，記錄每一次測量時基體元素A的峰面積或峰高SiA以及待測元素B的峰面積或峰高SiB；第二步：建立SiA與SiB的關(guān)系式；第三步：測量待測元素B的系列標(biāo)準(zhǔn)溶液，濃度依次為CiB；同時記錄每一次測量時待測元素B的峰面積或峰高SiB1以及基體元素A的峰面積或峰高SiA1；第四步：用SiA1代入SiA與SiB關(guān)系式中的SiA，同時用SiB1減去SiA與SiB關(guān)系式中的SiB，得ΔSiB；第五步：由CiB與ΔSiB建立數(shù)學(xué)關(guān)系，即為消除基體元素A干擾后的、待測元素B的最終工作曲線。本發(fā)明方法應(yīng)用廣泛、使用簡單，可以有效消除基體元素干擾。

本發(fā)明授權(quán)一種基于能譜分析消除基體元素干擾的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于能譜分析消除基體元素干擾的方法，其特征在于：令基體元素為A、待測元素為B、標(biāo)樣編號i＝1,2,3,4,5,6,……； 包括以下步驟： 第一步：測量基體元素A的系列標(biāo)準(zhǔn)溶液，同時記錄每一次測量時基體元素A的峰面積或峰高SiA以及待測元素B的峰面積或峰高SiB； 第二步：根據(jù)第一步的測量結(jié)果建立SiA與SiB的關(guān)系式； 第三步：測量待測元素B的系列標(biāo)準(zhǔn)溶液，濃度依次為CiB；同時記錄每一次測量時待測元素B的峰面積或峰高SiB1以及基體元素A的峰面積或峰高SiA1； 第四步：用第三步測得SiA1代入SiA與SiB關(guān)系式中的SiA，同時用SiB1減去SiA與SiB關(guān)系式中的SiB，得ΔSiB； ΔSiB為待測元素B扣除本底后的峰面積或峰高； 第五步：由第三步的CiB與第四步的ΔSiB建立數(shù)學(xué)關(guān)系，即為消除基體元素A干擾后的、待測元素B的最終工作曲線。

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