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龍圖騰網(wǎng)獲悉美若科技有限公司申請(qǐng)的專利一種介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116426868B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202210867230.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/02；該發(fā)明授權(quán)一種介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法是由丁明輝;劉艷青;王凱;秦靜設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-07-22向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法在說明書摘要公布了：本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法，涉及微波衰減材料制備技術(shù)領(lǐng)域。該制備方法包括：在精拋處理的石墨基片表面鍍覆合金襯底，用化學(xué)氣相沉積法在所述合金襯底上沉積摻硼金剛石膜，得到復(fù)合片；采用慢速伺服磨削技術(shù)去除所述復(fù)合片的石墨基片，用軟金屬拋光裝置去除所述復(fù)合片的殘余石墨基片和合金襯底，用自動(dòng)研磨裝置對(duì)所述摻硼金剛石膜的沉積表面進(jìn)行拋光，得到所述高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料。該制備方法具有顯微組織結(jié)構(gòu)控制精度高、工藝穩(wěn)定性和重復(fù)性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，可實(shí)現(xiàn)金剛石基微波衰減材料的高效制備。

本發(fā)明授權(quán)一種介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料的制備方法，其特征在于，包括： 在精拋處理的石墨基片表面鍍覆合金襯底，用化學(xué)氣相沉積法在所述合金襯底上沉積摻硼金剛石膜，得到復(fù)合片； 采用慢速伺服磨削技術(shù)去除所述復(fù)合片的石墨基片，用軟金屬拋光裝置去除所述復(fù)合片的殘余石墨基片和合金襯底，用自動(dòng)研磨裝置對(duì)所述摻硼金剛石膜的沉積表面進(jìn)行拋光，得到所述高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料。

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