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龍圖騰網(wǎng)獲悉大日本印刷株式會(huì)社申請(qǐng)的專利掩模的制造方法和掩模獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115572942B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202210702316.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/04；該發(fā)明授權(quán)掩模的制造方法和掩模是由田中成美;池永知加雄設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-06-21向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本掩模的制造方法和掩模在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及掩模的制造方法和掩模。掩模可以具備：在第1方向上相向的第1端部和第2端部；和位于第1端部與第2端部之間并包含貫通孔組的中間部。掩模的制造方法可以具備：中間部形成步驟，在基材形成中間部的外緣和貫通孔組；第1端部形成步驟，在基材形成第1端部的外緣；和第2端部形成步驟，在基材形成第2端部的外緣。中間部形成步驟可以包含：使用第1曝光掩模將基材上的抗蝕劑層曝光的工藝；和經(jīng)由被曝光和顯影的抗蝕劑層對(duì)基材進(jìn)行蝕刻的工藝。第1端部形成步驟可以包含：使用第2曝光掩模將基材上的抗蝕劑層曝光的工藝；和經(jīng)由被曝光和顯影的上述抗蝕劑層對(duì)基材進(jìn)行蝕刻的工藝。或者，第1端部形成步驟可以包含使用激光加工基材的工藝。

本發(fā)明授權(quán)掩模的制造方法和掩模在權(quán)利要求書中公布了：1.一種制造方法，其為掩模的制造方法，其中， 所述掩模具備：在第1方向上相向的第1端部和第2端部；和位于所述第1端部與第2端部之間并包含貫通孔組的中間部， 所述制造方法具備： 中間部形成步驟，在原始基材形成所述中間部的外緣和所述貫通孔組； 第1端部形成步驟，在所述原始基材形成所述第1端部的外緣；和 第2端部形成步驟，在所述原始基材形成所述第2端部的外緣， 通過所述中間部形成步驟、所述第1端部形成步驟以及所述第2端部形成步驟，形成了第1臺(tái)階部，所述第1臺(tái)階部位于所述第1端部與所述中間部的邊界并在與所述第1方向正交的第2方向上位移， 所述第2方向上的所述第1臺(tái)階部的尺寸為1mm以下， 所述中間部形成步驟包含：使用第1曝光掩模將所述原始基材上的抗蝕劑層曝光的工藝；和經(jīng)由被曝光和顯影的所述抗蝕劑層對(duì)所述原始基材進(jìn)行蝕刻的工藝， 所述第1端部形成步驟包含：使用第2曝光掩模將所述原始基材上的抗蝕劑層曝光的工藝；和經(jīng)由被曝光和顯影的所述抗蝕劑層對(duì)所述原始基材進(jìn)行蝕刻的工藝， 所述第2端部形成步驟包含：使用第3曝光掩模將所述原始基材上的抗蝕劑層曝光的工藝；和經(jīng)由被曝光和顯影的所述抗蝕劑層對(duì)所述原始基材進(jìn)行蝕刻的工藝， 對(duì)使用所述第1曝光掩模曝光的所述原始基材上的所述抗蝕劑層、使用所述第2曝光掩模曝光的所述原始基材上的所述抗蝕劑層、以及使用所述第3曝光掩模曝光的所述原始基材上的所述抗蝕劑層同時(shí)進(jìn)行顯影處理。

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