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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利真空處理裝置和真空處理裝置的控制方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113903697B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110728639.1，技術領域涉及：H01L21/683；該發明授權真空處理裝置和真空處理裝置的控制方法是由森淳設計研發完成，并于2021-06-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本真空處理裝置和真空處理裝置的控制方法在說明書摘要公布了：本發明提供真空處理裝置和真空處理裝置的控制方法。改善由處理容器的變形引起的載置臺的位置和傾斜度的偏離。真空處理裝置具有：處理容器，其能夠將其內部維持為真空氣氛；載置臺，其設于處理容器內，用于載置基板；支承構件，其貫穿處理容器的底部的孔而自下方支承載置臺；基體構件，其與支承構件的位于處理容器的外部的端部卡合，該基體構件能夠與載置臺一體地移動；以及多個致動器，它們在處理容器的底部與基體構件之間互相排列地設置，該多個致動器使基體構件相對于處理容器的底部相對地移動，從而調整載置臺的位置和傾斜度。

本發明授權真空處理裝置和真空處理裝置的控制方法在權利要求書中公布了：1.一種真空處理裝置，其中， 該真空處理裝置具有： 處理容器，其能夠將其內部維持為真空氣氛； 載置臺，其設于所述處理容器內，用于載置基板； 支承構件，其貫穿所述處理容器的底部的孔而自下方支承所述載置臺； 基體構件，其與所述支承構件的位于所述處理容器的外部的部分卡合，該基體構件能夠與所述載置臺一體地移動；以及 多個致動器，它們在所述處理容器的底部與所述基體構件之間互相排列地設置，該多個致動器使所述基體構件相對于所述處理容器的底部相對地移動，從而調整所述載置臺的位置和傾斜度， 其中，該真空處理裝置還具有吸收機構，該吸收機構吸收所述處理容器的底部的變形， 所述多個致動器與所述吸收機構連結， 其中，所述吸收機構具有： 板構件；以及 桿構件，該桿構件的一端與所述處理容器的底部連結，并且該桿構件的另一端與所述板構件連結，該桿構件抑制所述變形向所述板構件的傳遞， 所述多個致動器與所述板構件連結， 其中，所述桿構件的所述一端以能夠旋轉滑動的方式與所述處理容器的底部連結，以及或者所述桿構件的所述另一端以能夠旋轉滑動的方式與所述板構件連結， 所述桿構件向與所述處理容器的底部的變形對應的方向旋轉。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。