應用材料股份有限公司摩根·艾文斯獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉應用材料股份有限公司申請的專利形成光學器件的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115427845B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180029083.5，技術領域涉及：G02B5/18；該發明授權形成光學器件的方法是由摩根·艾文斯;約瑟·C·歐爾森;魯格·邁爾提摩曼提森;丹尼爾·迪斯塔蘇;萊恩·柏亞斯設計研發完成，并于2021-04-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本形成光學器件的方法在說明書摘要公布了：提供形成光學器件的方法。在一個實例中，一種方法可包括在襯底的頂上提供掩模層，掩模層包括位于第一處理區域之上的第一開口及位于第二處理區域之上的第二開口。所述方法可還包括：刻蝕襯底，以使第一處理區域及第二處理區域凹陷；在襯底之上形成光柵材料；以及在第一處理區域及第二處理區域中刻蝕光柵材料，以形成相對于從襯底的頂表面延伸的垂線被定向成非零角度的多個結構。
本發明授權形成光學器件的方法在權利要求書中公布了：1.一種形成光學器件的方法，包括： 在襯底的頂上提供掩模層，所述掩模層包括位于第一處理區域之上的第一開口及位于第二處理區域之上的第二開口； 刻蝕所述襯底，以形成具有第一深度的所述第一處理區域和具有不同于所述第一深度的第二深度的所述第二處理區域； 在形成有所述第一處理區域和所述第二處理區域的所述襯底之上形成光柵材料；以及 在所述第一處理區域及所述第二處理區域中刻蝕所述光柵材料，以形成相對于從所述襯底的頂表面延伸的垂線被定向成非零角度的多個結構。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料股份有限公司，其通訊地址為：美國加州圣塔克拉爾,鮑爾斯大道3050號(郵遞區號:95054)；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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