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龍圖騰網獲悉電子科技大學申請的專利一種用于含腔目標電磁散射特性獲取的內外求解方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120068406B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510104936.7，技術領域涉及：G06F30/20；該發明授權一種用于含腔目標電磁散射特性獲取的內外求解方法是由闕肖峰;敖俊源;黃熠昕設計研發完成，并于2025-01-23向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種用于含腔目標電磁散射特性獲取的內外求解方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種用于含腔目標電磁散射特性獲取的內外求解方法，涉及電磁場與微波技術領域，包括如下步驟：將含腔結構分解為腔體內和腔體外兩個部分，在腔體內外交界的口徑面上建立惠更斯等效面；利用電流和電磁場的連續性條件保證內外分區前后電磁建模解的一致性；在內外結構中分別選擇不同的求解方法，腔體內部采用級聯法結合快速直接求解技術進行計算，腔體外采用并行多層快速多極子算法進行計算，最后利用迭代算法進行內外區域的迭代求解，得到滿足計算要求的含腔結構整體的RCS散射特性。本發明提高了含腔目標電磁散射建模的靈活性，解決了腔體結構帶來的內諧振問題，顯著提升了含腔目標電磁散射求解能力。

本發明授權一種用于含腔目標電磁散射特性獲取的內外求解方法在權利要求書中公布了：1.一種用于含腔目標電磁散射特性獲取的內外求解方法，其特征在于，包括如下步驟： S1、含腔目標的內外幾何分區； S2、腔體內部閉合區域求解：對于耦合關系復雜、矩陣性態差的內域，利用級聯法，并結合直接求解技術對腔體內部進行電磁散射求解，包括如下步驟： S201、對腔體內部幾何結構進行分段； S202、基于表面積分方程法，離散獲得每一段腔體結構的口徑導納矩陣； S203、對各段導納矩陣進行級聯，采用直接求解器求解導納矩陣的逆矩陣，獲得腔體內域的總體口徑導納矩陣； S204、根據廣義網絡公式和等效原理計算出口徑上的等效磁流從而最終算出腔體內域的散射； S3、腔體外部系統求解：對腔體口徑外部系統，采用嚴格的表面積分方程法結合并行多層快速多極子算法進行建模與分析計算； S4、建立口徑面上傳輸條件，確保分區后的場分布與一體化建模中場分布相同； S5、求解含腔結構整體的散射特性：利用迭代算法進行內外區域的迭代求解，得到滿足計算要求的含腔結構整體的RCS散射特性。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人電子科技大學，其通訊地址為：611731 四川省成都市高新區(西區)西源大道2006號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。