買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉長(zhǎng)鑫科技集團(tuán)股份有限公司申請(qǐng)的專利襯底處理裝置及其鍍膜擋件獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116949424B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202310957414.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C16/44；該發(fā)明授權(quán)襯底處理裝置及其鍍膜擋件是由陳信夫設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-07-28向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本襯底處理裝置及其鍍膜擋件在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本公開(kāi)涉及一種襯底處理裝置及其鍍膜擋件，襯底處理裝置的鍍膜擋件包括：第一擋件及第二擋件。第一擋件抵接于反應(yīng)腔室的頂壁或與反應(yīng)腔室的頂壁設(shè)有第一間隙。第二擋件抵接于反應(yīng)腔室的側(cè)壁或與反應(yīng)腔室的側(cè)壁設(shè)有第二間隙，第二擋件的頂部與第一擋件相連，并環(huán)繞第一擋件的邊緣周向設(shè)置，使第一擋件與第二擋件的頂部形成密封，這樣反應(yīng)腔室內(nèi)部在真空泵的作用下形成的負(fù)壓對(duì)第一擋件與反應(yīng)腔室的頂壁之間的第一間隙不產(chǎn)生影響，即第一擋件與反應(yīng)腔室的頂壁之間的第一間隙不再產(chǎn)生負(fù)壓氣流場(chǎng)，進(jìn)而便無(wú)法將源組件的源氣體通過(guò)窗口吸入第一間隙并轉(zhuǎn)移到反應(yīng)組件對(duì)應(yīng)的反應(yīng)區(qū)域，從而減小顆粒雜質(zhì)的產(chǎn)生，且提高襯底表面上沉積的膜層均一性。

本發(fā)明授權(quán)襯底處理裝置及其鍍膜擋件在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種襯底處理裝置的鍍膜擋件，用于可拆卸地裝設(shè)于反應(yīng)腔室內(nèi)部，其特征在于， 所述襯底處理裝置的鍍膜擋件包括： 第一擋件，所述第一擋件抵接于所述反應(yīng)腔室的頂壁或與所述反應(yīng)腔室的頂壁設(shè)有第一間隙，所述第一擋件上開(kāi)設(shè)有多個(gè)窗口，各個(gè)所述窗口與所述反應(yīng)腔室頂壁上的各個(gè)氣體輸出部對(duì)應(yīng)設(shè)置；及 第二擋件，所述第二擋件抵接于所述反應(yīng)腔室的側(cè)壁或與所述反應(yīng)腔室的側(cè)壁設(shè)有第二間隙，所述第二擋件的頂部與所述第一擋件相連，并環(huán)繞所述第一擋件的邊緣周向設(shè)置； 其中，所述第二擋件環(huán)繞所述第一擋件的邊緣周向設(shè)置的頂部的各個(gè)部位均與所述第一擋件密封相連。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人長(zhǎng)鑫科技集團(tuán)股份有限公司，其通訊地址為：230601 安徽省合肥市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)空港工業(yè)園興業(yè)大道388號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。