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龍圖騰網(wǎng)獲悉武漢大學(xué)申請(qǐng)的專利基于對(duì)抗性光照的模型水印抹除方法及設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116051350B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202310131775.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06T1/00；該發(fā)明授權(quán)基于對(duì)抗性光照的模型水印抹除方法及設(shè)備是由汪潤;任紀(jì)星;李昊軒;劉麗;陳晶;王麗娜設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-02-17向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基于對(duì)抗性光照的模型水印抹除方法及設(shè)備在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種基于對(duì)抗性光照的模型水印抹除方法及設(shè)備。所述方法包括：步驟1，估計(jì)目標(biāo)的光照，為改變圖像的光照，通過添加光照擾動(dòng)獲取光照的強(qiáng)度和位置，所需的光照擾動(dòng)在不犧牲預(yù)測(cè)良性樣本的能力的情況下破壞水印驗(yàn)證的觸發(fā)器，擾動(dòng)會(huì)誤導(dǎo)分類模型的預(yù)測(cè)，對(duì)抗性的重新啟動(dòng)擾動(dòng)用于擾亂采用良性樣本預(yù)測(cè)的深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型；步驟2，定位可見的觸發(fā)器，并重新定位觸發(fā)器的區(qū)域，以自適應(yīng)地調(diào)整注入擾動(dòng)ε；步驟3，帶陰影的照明渲染，采用通過建模陰影的重新方法，顯示在廣泛的圖像重新定位應(yīng)用的潛力。本發(fā)明能在不影響功能的情況下使水印無效。

本發(fā)明授權(quán)基于對(duì)抗性光照的模型水印抹除方法及設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于對(duì)抗性光照的模型水印抹除方法，其特征在于，包括：步驟1，估計(jì)目標(biāo)的光照，為改變圖像的光照，通過添加光照擾動(dòng)獲取光照的強(qiáng)度和位置，所需的光照擾動(dòng)在不犧牲預(yù)測(cè)良性樣本的能力的情況下破壞水印驗(yàn)證的觸發(fā)器，擾動(dòng)會(huì)誤導(dǎo)分類模型的預(yù)測(cè)，對(duì)抗性的重新啟動(dòng)擾動(dòng)用于擾亂采用良性樣本預(yù)測(cè)的深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)模型；步驟2，定位可見的觸發(fā)器，并重新定位觸發(fā)器的區(qū)域，以自適應(yīng)地調(diào)整注入擾動(dòng)；步驟3，帶陰影的照明渲染，采用通過建模陰影的重新方法，顯示在廣泛的圖像重新定位應(yīng)用的潛力； 步驟1具體包括：針對(duì)注入擾動(dòng)的強(qiáng)度，給定一個(gè)人臉圖像I，采用人臉渲染模型蘭伯特模型來表示包括，，其中，R、N、L分別表示反射率、法線和照明，f（·）為蘭伯特陰影函數(shù)，照明L為九維向量的九個(gè)球面的諧波系數(shù)，通過更新照明L來生成一個(gè)新的人臉圖像來誤導(dǎo)水印驗(yàn)證，采用反照率商圖像來獲得無反射率的重構(gòu)方法，新的人臉圖像表示為，計(jì)算包括，；其中，I的恢復(fù)通過正常的N、原始光L和目標(biāo)照明來計(jì)算。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人武漢大學(xué)，其通訊地址為：430072 湖北省武漢市武昌區(qū)八一路299號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。