京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司楊堂獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司申請的專利一種掩膜版、曝光設備和曝光方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115542658B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211203997.1,技術領域涉及:G03F1/42;該發明授權一種掩膜版、曝光設備和曝光方法是由楊堂;葉超;魏小丹;何寶生;劉沛;鄧祖文設計研發完成,并于2022-09-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種掩膜版、曝光設備和曝光方法在說明書摘要公布了:本申請實施例提供了一種掩膜版、曝光設備和曝光方法。該掩膜版包括:有多個子掩膜圖形組的第一掩膜子版和有多個透光區的第二掩膜子版。第二掩膜子版設置在第一掩膜子版的一側,且能夠相對第一掩膜子版移動。移動對位結構與第二掩膜子版連接,用于根據接收到的對位信號,控制第二掩膜子版移動,以使得在不同的曝光過程中透光區分別對應不同的子掩膜圖形組。本申請實施例可以將多種掩膜版圖形集成在一張掩膜版中,減少掩膜版使用數量,降低生產成本,同時減少生產時掩膜版的移動風險及其造成的產品工藝不良。
本發明授權一種掩膜版、曝光設備和曝光方法在權利要求書中公布了:1.一種掩膜版,其特征在于,包括: 第一掩膜子版,包括多個子掩膜圖形,以及位于相鄰所述子掩膜圖形之間的遮光區,多個所述子掩膜圖形中,包括多組子掩膜圖形組,同一所述子掩膜圖形組包括同種曝光圖案,不同所述子掩膜圖形組包括不同種曝光圖案; 第二掩膜子版,設置在所述第一掩膜子版的一側,包括多個透光區,以及位于相鄰所述透光區之間的非透光區; 移動對位結構,位于所述第二掩膜子版遠離所述第一掩膜子版的一側,并與所述第二掩膜子版連接,且在所述第二掩膜子版上的正投影位于所述非透光區,用于根據接收到的對位信號,控制所述第二掩膜子版相對所述第一掩膜子版移動,以使得在不同的曝光過程中所述透光區分別對應不同的子掩膜圖形組;任一所述子掩膜圖形組與所述透光區對應時,該子掩膜圖形組在所述第二掩膜子版上的正投影面積小于所述透光區的面積,且與所述透光區不對應的所述子掩膜圖形組在所述第二掩膜子版上的正投影位于所述非透光區內。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,其通訊地址為:100015 北京市朝陽區酒仙橋路10號;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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