鎧俠股份有限公司佐藤隆獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉鎧俠股份有限公司申請的專利模板、被加工構件及對齊方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115113497B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110871757.8，技術領域涉及：G03F9/00；該發明授權模板、被加工構件及對齊方法是由佐藤隆;三木聰設計研發完成，并于2021-07-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本模板、被加工構件及對齊方法在說明書摘要公布了：對齊標記包含沿第1方向以第1間距排列的第1標記、和沿第1方向以第2間距排列的第2標記。第1標記中的至少其中之一包含第1區域和第3區域。第2標記中的至少其中之一包含第2區域和第3區域。第1區域具有沿第1方向以線和間隔狀配置的第1圖案。第2區域具有沿與第1方向正交的第2方向以線和間隔狀配置的第2圖案。
本發明授權模板、被加工構件及對齊方法在權利要求書中公布了：1.一種模板，其具備對齊標記， 所述對齊標記包含沿第1方向以第1間距排列的第1標記、和沿所述第1方向以第2間距排列的第2標記，所述第1標記中的至少其中之一包含第1區域和第3區域，所述第2標記中的至少其中之一包含第2區域和所述第3區域，所述第1區域具有沿所述第1方向以線和間隔狀配置的第1圖案，所述第2區域具有沿與所述第1方向正交的第2方向以線和間隔狀配置的第2圖案， 所述第1區域使第1偏振光以與第2偏振光相比更高的透射率透射，且將所述第2偏振光以比所述第1偏振光更高的反射率反射，所述第1偏振光的電場沿包含所述第1方向的第1平面振動，所述第2偏振光的電場沿與所述第1平面正交的第2平面振動， 所述第2區域使所述第2偏振光以比所述第1偏振光更高的透射率透射，將所述第1偏振光以比所述第2偏振光更高的反射率反射。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人鎧俠股份有限公司，其通訊地址為：日本東京；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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