極光先進雷射株式會社大賀敏浩獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉極光先進雷射株式會社申請的專利電子器件的制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115997171B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080104279.1,技術領域涉及:G03F7/20;該發明授權電子器件的制造方法是由大賀敏浩;藤井光一;若林理設計研發完成,并于2020-09-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本電子器件的制造方法在說明書摘要公布了:本公開的一個觀點的電子器件的制造方法包含以下步驟:根據在晶片的掃描場內被形成的圖案求出作為與掃描方向正交的掃描寬度方向上的畸變成分的倍率;在掃描場內的多點計測晶片高度,求出掃描寬度方向的晶片高度的平均值;求出在基于晶片高度的平均值的對焦位置的情況下呈現容許CD值的脈沖激光的波長范圍;求出呈現求出的倍率的脈沖激光的第1波長;根據波長范圍和第1波長求出目標波長;以及從激光裝置輸出被控制成每個脈沖的波長成為目標波長的脈沖激光,在晶片的掃描場進行曝光。
本發明授權電子器件的制造方法在權利要求書中公布了:1.一種電子器件的制造方法,其包含在曝光裝置內在晶片上掃描曝光脈沖激光的步驟,其中,所述電子器件的制造方法包含以下步驟: 根據在所述晶片的掃描場內被形成于所述晶片的圖案,求出作為與掃描方向正交的掃描寬度方向上的畸變成分的倍率; 在所述晶片的所述掃描場內的多點計測晶片高度,根據所述晶片高度的計測結果求出所述掃描場內的所述掃描寬度方向上的所述晶片高度的平均值; 求出在基于所述晶片高度的平均值的對焦位置的情況下呈現容許臨界尺寸CD值的所述脈沖激光的波長范圍; 求出呈現所述倍率的所述脈沖激光的第1波長; 根據所述波長范圍和所述第1波長求出所述脈沖激光的目標波長; 通過激光裝置以每個脈沖的波長成為所述目標波長的方式生成所述脈沖激光,將該脈沖激光輸出到所述曝光裝置;以及 在所述晶片的所述掃描場曝光所述脈沖激光。
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