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龍圖騰網(wǎng)獲悉中核核電運(yùn)行管理有限公司申請(qǐng)的專利一種核電廠一回路多壓力平臺(tái)下的硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)和方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120340917B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510795575.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G21C17/022；該發(fā)明授權(quán)一種核電廠一回路多壓力平臺(tái)下的硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)和方法是由劉龍;黃磊;姚瑜;朱昌榮;曹先慧;雷成球;許亦杰;禹騰超;張宗普;許文中;張春雨;王小龍;齊浩策;劉曹斌;付佳兵;張嘉興;張永康;周賽濤;魏沈冰設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-06-16向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種核電廠一回路多壓力平臺(tái)下的硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)和方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及核電領(lǐng)域，尤其涉及一種核電廠一回路多壓力平臺(tái)下的硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)和方法。所述方法為：確定一回路壓力平臺(tái)；根據(jù)一回路壓力平臺(tái)變化，切換硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)在線方式；當(dāng)一回路處于高壓力平臺(tái)P1時(shí)，硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)切換至在線方式一；當(dāng)一回路處于中壓力平臺(tái)P2時(shí)，硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)切換至在線方式二；當(dāng)一回路處于低壓力平臺(tái)P3時(shí)，硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)切換至在線方式三。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了一回路多壓力平臺(tái)下硼表取樣流量的自動(dòng)調(diào)節(jié)，達(dá)到對(duì)一回路硼濃度實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的目的。

本發(fā)明授權(quán)一種核電廠一回路多壓力平臺(tái)下的硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)和方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種核電廠一回路多壓力平臺(tái)下的硼濃度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，包括： 一回路的下泄口連接第一管路，所述第一管路上依次設(shè)置第一一級(jí)冷卻器，低敏減壓閥，第一二級(jí)冷卻器，第一壓力表； 所述第一一級(jí)冷卻器與低敏減壓閥之間設(shè)置第二管路； 余熱排出泵的出口連接第三管路，所述第三管路上依次設(shè)置第二一級(jí)冷卻器，中敏減壓閥，第二二級(jí)冷卻器和第二壓力表； 所述第二一級(jí)冷卻器和中敏減壓閥之間設(shè)置第四管路，所述第四管路上設(shè)置高敏減壓閥和第三壓力表；高敏減壓閥的開度隨著第三壓力表實(shí)測(cè)的壓力變化而變化，以實(shí)現(xiàn)取樣流量的自動(dòng)調(diào)節(jié)； 所述第一管路，第二管路，第三管路及第四管路的一端均設(shè)置于手套箱內(nèi)； 第五管路與第六管路并聯(lián)，第五管路及第六管路的一端均設(shè)置于手套箱內(nèi)，另一端通過第七管路連接至容控箱；容控箱的另一端與一回路的回收口連接； 所述第五管路上設(shè)置硼表；所述第六管路上設(shè)置第二流量計(jì)；所述第七管路上設(shè)置第一流量計(jì)； 在不同壓力平臺(tái)下進(jìn)行硼濃度監(jiān)測(cè)時(shí)，在手套箱內(nèi)實(shí)現(xiàn)不同管路之間的連接； 高壓力平臺(tái)P1下進(jìn)行硼濃度監(jiān)測(cè)時(shí)，第一管路與第五管路連接； 中壓力平臺(tái)P2下進(jìn)行硼濃度監(jiān)測(cè)時(shí)，第三管路與第五管路連接； 低壓力平臺(tái)P3下進(jìn)行硼濃度監(jiān)測(cè)時(shí)，第四管路與第五管路連接，同時(shí)第六管路與第二管路連接； 一回路壓力由高到低3個(gè)壓力平臺(tái)P1、P2、P3定義如下： 高壓力平臺(tái)P1：2.3MPa.g＜?jí)毫Α?5.4MPa.g； 中壓力平臺(tái)P2：0.35MPa.g＜?jí)毫Α?.3MPa.g； 低壓力平臺(tái)P3：0MPa.g≤壓力≤0.35MPa.g。

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