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龍圖騰網(wǎng)獲悉湖北星辰技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120187045B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510669818.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D1/68；該發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法是由楊道虹;王逸群;胡陳誠;胡文超;劉淑娟設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-05-22向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法在說明書摘要公布了：本公開實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法，其中，半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括：基板，基板包括襯底以及位于襯底內(nèi)的絕緣結(jié)構(gòu)；多個(gè)溝槽結(jié)構(gòu)，分立設(shè)置于基板內(nèi)；其中，絕緣結(jié)構(gòu)包括至少一個(gè)第一子部，第一子部位于相鄰的兩個(gè)溝槽結(jié)構(gòu)之間，且在相鄰的兩個(gè)溝槽結(jié)構(gòu)的排布方向上，第一子部的延伸長度與相鄰的兩個(gè)溝槽結(jié)構(gòu)之間的距離相等；電容結(jié)構(gòu)，包括層疊設(shè)置的多個(gè)電極層以及至少位于相鄰兩個(gè)電極層之間的第一介質(zhì)層，電容結(jié)構(gòu)至少覆蓋多個(gè)溝槽結(jié)構(gòu)的內(nèi)壁。

本發(fā)明授權(quán)一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括： 基板，所述基板包括襯底以及位于所述襯底內(nèi)的絕緣結(jié)構(gòu)； 多個(gè)溝槽結(jié)構(gòu)，分立設(shè)置于所述基板內(nèi)；其中，所述絕緣結(jié)構(gòu)包括至少一個(gè)第一子部，所述第一子部位于相鄰的兩個(gè)所述溝槽結(jié)構(gòu)之間，且在相鄰的兩個(gè)所述溝槽結(jié)構(gòu)的排布方向上，所述第一子部的延伸長度與相鄰的兩個(gè)所述溝槽結(jié)構(gòu)之間的距離相等； 將多個(gè)所述溝槽結(jié)構(gòu)和位于相鄰的兩個(gè)所述溝槽結(jié)構(gòu)之間的第一子部定義為目標(biāo)結(jié)構(gòu)；所述絕緣結(jié)構(gòu)還包括與所述第一子部連接的第二子部，所述第二子部圍繞所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的側(cè)壁且部分位于所述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的下方，多個(gè)所述溝槽結(jié)構(gòu)位于所述絕緣結(jié)構(gòu)限定的空間內(nèi)； 電容結(jié)構(gòu)，包括層疊設(shè)置的多個(gè)電極層以及至少位于相鄰兩個(gè)所述電極層之間的第一介質(zhì)層，所述電容結(jié)構(gòu)至少覆蓋多個(gè)所述溝槽結(jié)構(gòu)的內(nèi)壁。

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