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龍圖騰網獲悉華南師范大學申請的專利利用正負可調光刻膠特性一步制備微納結構的系統及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115356895B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210868589.1，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權利用正負可調光刻膠特性一步制備微納結構的系統及方法是由吳立軍;王浩;朱彥霖;李強;陳儷赟;魏亞壯;劉佳鑫;陳浩瀚;黃巍巍設計研發完成，并于2022-07-22向國家知識產權局提交的專利申請。

本利用正負可調光刻膠特性一步制備微納結構的系統及方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種利用正負可調光刻膠特性一步制備微納結構的系統及方法，該系統包括沿光路設置的連續激光器、擴束系統、衰減片、半波片、光快門、分光裝置、油浸物鏡和正負性可調光刻膠樣品；還包括三維高精度納米定位平移臺、透鏡、CCD相機和計算機；分光裝置將入射到正負性可調光刻膠樣品表面的激光一部分反射到分光裝置上進而照射到第三透鏡上；油浸物鏡將激光束聚焦在樣品上，一步制備多種形狀的微納結構，然后采用顯影液進行顯影或采用除膠液進行除膠。本發明通過簡單地用連續激光直寫來制造一種正性和負性共存的新型聚合物結構，可以一步完成多種聚合物微納結構的制備，有助于低成本設計亞微米級復雜圖案，具有良好的發展前景。

本發明授權利用正負可調光刻膠特性一步制備微納結構的系統及方法在權利要求書中公布了：1.一種利用正負可調光刻膠特性一步制備微納結構的系統，其特征在于，包括沿光路設置的連續激光器、擴束系統、衰減片、半波片、光快門、分光裝置、油浸物鏡和正負性可調光刻膠樣品；還包括三維高精度納米定位平移臺、第三透鏡、CCD相機和計算機； 所述正負性可調光刻膠樣品安裝在三維高精度納米定位平移臺上；所述正負性可調光刻膠樣品包括基底和涂覆在基底上的S1813正性光刻膠；所述S1813正性光刻膠包括甲酚酚醛樹脂、二氮萘醌光敏化合物和溶劑； 所述連續激光器用于發出連續波激光束； 所述擴束系統用于對連續波激光束進行擴束； 所述衰減片用于控制擴束后的連續波激光束的能量； 所述半波片用于控制連續波激光束的偏振方向； 所述光快門用于控制連續波激光束的通光量； 所述分光裝置用于將入射進來的連續波激光束經油浸物鏡聚焦到正負性可調光刻膠樣品表面，入射到正負性可調光刻膠樣品表面的激光一部分反射到分光裝置上進而照射到第三透鏡上； 所述油浸物鏡用于將激光束聚焦在正負性可調光刻膠樣品上，在適當的激光通量和曝光時間的條件下，一步制備多種形狀的微納結構，然后采用顯影液進行顯影或采用除膠液進行除膠；所述多種形狀的微納結構包括反環形結構、柱形結構、光滑甜甜圈結構、花形甜甜圈結構以及花形甜甜圈+圓環結構； 所述第三透鏡用于將激光束聚焦在CCD相機上； 所述CCD相機用于實時監測加工過程，觀察光束的曝光情況； 所述計算機用于控制三維高精度納米定位平移臺和CCD相機； 在入射光波長接近于DNQ吸收帶邊緣的情況下，DNQ向ICA的轉換相對較差；外光束的閾值能量僅足以使DNQNR轉化為ICANR，在此過程中能觀察到正光刻膠的行為；光束中心區域緊聚焦光斑以達到ICANR光化學轉換的閾值能量，此過程中能觀察到負光刻膠的行為；未曝光區域形成聚合物薄膜。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人華南師范大學，其通訊地址為：510000 廣東省廣州市中山大道西55號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。