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龍圖騰網獲悉湘潭大學申請的專利摻雜元素對HfO₂鐵電薄膜疇結構影響的相場分析方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115221755B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210783101.5，技術領域涉及：G06F30/23；該發明授權摻雜元素對HfO₂鐵電薄膜疇結構影響的相場分析方法是由蔣麗梅;楊宛亭;鄧宇輝;廖寧濤;林鑫;朱冰妍;姜杰;楊瓊設計研發完成，并于2022-06-27向國家知識產權局提交的專利申請。

本摻雜元素對HfO₂鐵電薄膜疇結構影響的相場分析方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種摻雜元素對HfO2鐵電薄膜疇結構影響的相場分析方法。該方法包括建立極化序參量的總能量方程；基于所述總能量方程建立基于摻硅元素影響的力場控制方程、極化場控制方程和電場控制方程；基于摻雜元素的化學能和梯度能建立摻雜元素能量方程；基于所述摻雜元素能量方程建立濃度場控制方程；根據所述力場控制方程、極化場控制方程、電場控制方程和濃度場控制方程建立鐵電薄膜的相場計算模型；基于所述相場計算模型，通過調整摻雜元素的濃度和分布方式模擬所述HfO2鐵電薄膜的相變規律。該方法通過引入摻雜元素的摻雜元素能量方程，使得HfO2鐵電薄膜的相場計算模型能夠為摻雜元素的濃度和分布方式提供優化指導。

本發明授權摻雜元素對HfO₂鐵電薄膜疇結構影響的相場分析方法在權利要求書中公布了：1.一種摻雜元素對HfO2鐵電薄膜疇結構影響的相場分析方法，其特征在于，包括： 考慮摻雜元素對HfO2鐵電薄膜的影響，建立極化序參量的總能量方程； 基于所述總能量方程建立基于摻硅元素影響的力場控制方程、極化場控制方程和電場控制方程； 基于摻雜元素的化學能和梯度能建立摻雜元素能量方程； 基于所述摻雜元素能量方程建立濃度場控制方程； 根據所述力場控制方程、極化場控制方程、電場控制方程和濃度場控制方程建立摻雜元素影響下HfO2鐵電薄膜的相場計算模型； 基于所述相場計算模型，通過調整摻雜元素的濃度和分布方式模擬所述HfO2鐵電薄膜的相變規律； 所述摻雜元素能量方程如下： 其中，H為濃度的自由能，fc為與濃度相關的化學自由能量密度，kc為梯度能系數，c為摻雜元素濃度的守恒序參量； 基于摻雜元素的化學能和梯度能建立摻雜元素能量方程之后，還包括基于理想模型對fc進行修正： 所述理想模型如下： 其中，μc為偏導，μ0為常數，R為理想氣體常數8.314J·mol-1·K-1，T為溫度常數300K。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人湘潭大學，其通訊地址為：411100 湖南省湘潭市雨湖區羊牯塘27號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。