佳和桂科技股份有限公司林俊佑獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉佳和桂科技股份有限公司申請的專利制備苯并前列環素類似物的方法和中間物，以及由其制得的苯并前列環素類似物獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115433071B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210624507.9，技術領域涉及：C07D309/12；該發明授權制備苯并前列環素類似物的方法和中間物，以及由其制得的苯并前列環素類似物是由林俊佑;魏自縵;魏士益設計研發完成，并于2022-06-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本制備苯并前列環素類似物的方法和中間物，以及由其制得的苯并前列環素類似物在說明書摘要公布了：本發明關于用于制備苯并前列環素類似物的方法和由所述方法制備的中間物，以及由其制得的苯并前列環素類似物。本發明亦關于呈外消旋或光活性形式的環戊烯酮中間物。
本發明授權制備苯并前列環素類似物的方法和中間物，以及由其制得的苯并前列環素類似物在權利要求書中公布了：1.一種式1的外消旋或光學富集化合物， 其中P為H或羥基保護基，所述羥基保護基選自由以下組成的群：甲氧基甲基、甲氧基硫代甲基、2-甲氧基乙氧基甲基、雙2-氯乙氧基甲基、四氫吡喃基、四氫硫代吡喃基、4-甲氧基四氫吡喃基、4-甲氧基四氫硫代吡喃基、四氫呋喃基、四氫硫代呋喃基、1-乙氧基乙基、1-甲基-1-甲氧基乙基、三苯甲基、烯丙基、苯甲基和SiRaRbRc，其中Ra、Rb和Rc各自獨立地為未經取代的C1-4烷基、苯基或苯甲基；和X為Cl、Br、I或-CH2CH2CH2COOR1，其中R1為C1-7烷基或C7-11芳烷基。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人佳和桂科技股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣桃園市楊梅區青山里獅四路2號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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