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龍圖騰網獲悉晶焱科技股份有限公司申請的專利用以偵測漏電流的二極管測試模塊及其測試方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114527363B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210002630.7，技術領域涉及：G01R31/26；該發明授權用以偵測漏電流的二極管測試模塊及其測試方法是由葉致廷;黃菘志;林昆賢;莊哲豪設計研發完成，并于2022-01-04向國家知識產權局提交的專利申請。

本用以偵測漏電流的二極管測試模塊及其測試方法在說明書摘要公布了：本發明公開一種二極管測試模塊及其測試方法，公開具有第一導電型的基板及形成于基板上并具有第二導電型的磊晶層。磊晶層上形成有具有第一導電型的井型區，具有第二導電型的第一、第二重摻雜區電性耦接于第一、第二輸入輸出端，并且理論上應形成于井型區中，其中形成有隔離溝槽提供電性隔離。當輸入一操作電壓時，本發明提供具有第三、第四重摻雜區的偵測單元，使其設置于第一、第二輸入輸出端間的電流導通路徑上，通過設置偵測單元偵測是否有漏電流的產生，本發明在無須額外進行傳統電容測試設備及測試時間的情況下，有效判斷其井型區是否丟失。

本發明授權用以偵測漏電流的二極管測試模塊及其測試方法在權利要求書中公布了：1.一種測試方法，適于用以偵測一漏電流的一二極管測試模塊，其特征在于，包括以下步驟： 提供具有一第一導電型的一基板，以及形成于該基板上的一磊晶層，該磊晶層具有一第二導電型； 提供具有該第一導電型的一井型區，該井型區形成于該磊晶層中，并在該井型區中形成具有該第二導電型的一第一重摻雜區與具有該第二導電型的一第二重摻雜區，該第一重摻雜區與該第二重摻雜區分別電性耦接于一第一輸入輸出端與一第二輸入輸出端； 在該第一重摻雜區與該第二重摻雜區之間形成有至少一隔離溝槽，以提供電性隔離，其中，該至少一隔離溝槽的深度大于該磊晶層的深度； 提供一偵測單元，當該第一輸入輸出端或該第二輸入輸出端被給定偏壓時，該偵測單元設置于該第一輸入輸出端與該第二輸入輸出端之間的一電流導通路徑上，其中，該偵測單元包括具有該第二導電型的一第三重摻雜區與具有該第二導電型的一第四重摻雜區，該至少一隔離溝槽形成于該第三重摻雜區與該第四重摻雜區之間，以提供電性隔離，并且，該第三重摻雜區與該第四重摻雜區連接有金屬走線，其中，該第三重摻雜區與該第四重摻雜區之間通過一連接金屬線連接，使該第三重摻雜區與該第四重摻雜區形成短路；以及 當一操作電壓輸入于該第一輸入輸出端或是該第二輸入輸出端時，該偵測單元檢測是否有該漏電流的產生，從而確認該第一重摻雜區或該第二重摻雜區是否確實地形成于該井型區中。

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