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龍圖騰網(wǎng)獲悉中太能源科技(上海)有限公司申請(qǐng)的專利一種薄膜罐基準(zhǔn)線劃線方法、系統(tǒng)、存儲(chǔ)介質(zhì)及薄膜罐獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120296825B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510789411.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/10；該發(fā)明授權(quán)一種薄膜罐基準(zhǔn)線劃線方法、系統(tǒng)、存儲(chǔ)介質(zhì)及薄膜罐是由魏穎;何煒設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-06-13向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種薄膜罐基準(zhǔn)線劃線方法、系統(tǒng)、存儲(chǔ)介質(zhì)及薄膜罐在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及薄膜罐建造技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種薄膜罐基準(zhǔn)線劃線方法、系統(tǒng)、存儲(chǔ)介質(zhì)及薄膜罐。本發(fā)明的薄膜罐基準(zhǔn)線劃線方法，內(nèi)壁數(shù)學(xué)模型包括目標(biāo)函數(shù)和約束條件，內(nèi)壁數(shù)學(xué)模型的參數(shù)變量為理論底面角點(diǎn)、理論底面角平分線點(diǎn)和理論頂面角平分線點(diǎn)的坐標(biāo)；限定所述內(nèi)壁數(shù)學(xué)模型的參數(shù)變量的定義域；求解滿足所述目標(biāo)函數(shù)和約束條件的理論底面角點(diǎn)、理論底面角平分線點(diǎn)和理論頂面角平分線點(diǎn)的坐標(biāo)；根據(jù)獲得的理論底面角點(diǎn)、理論底面角平分線點(diǎn)和理論頂面角平分線點(diǎn)的坐標(biāo)進(jìn)行打點(diǎn)劃線。本申請(qǐng)能夠替代傳統(tǒng)依賴第三方軟件的擬合方法，結(jié)合多維度約束條件確保理論模型與實(shí)際建造偏差的兼容性，從而在保證精度的前提下提升基準(zhǔn)線劃制效率。

本發(fā)明授權(quán)一種薄膜罐基準(zhǔn)線劃線方法、系統(tǒng)、存儲(chǔ)介質(zhì)及薄膜罐在權(quán)利要求書中公布了：1.一種薄膜罐基準(zhǔn)線劃線方法，其特征在于，用于形成包括理論底面、理論頂面和多個(gè)理論壁面的薄膜罐內(nèi)壁理論空間模型，包括： 建立內(nèi)壁數(shù)學(xué)模型，所述內(nèi)壁數(shù)學(xué)模型包括目標(biāo)函數(shù)和約束條件，所述目標(biāo)函數(shù)設(shè)計(jì)為使所述理論底面的面積最大，所述內(nèi)壁數(shù)學(xué)模型的參數(shù)變量為理論底面角點(diǎn)、理論底面角平分線點(diǎn)和理論頂面角平分線點(diǎn)的坐標(biāo)； 限定所述內(nèi)壁數(shù)學(xué)模型的參數(shù)變量的定義域； 求解滿足所述目標(biāo)函數(shù)和約束條件的理論底面角點(diǎn)、理論底面角平分線點(diǎn)和理論頂面角平分線點(diǎn)的坐標(biāo)； 根據(jù)獲得的理論底面角點(diǎn)、理論底面角平分線點(diǎn)和理論頂面角平分線點(diǎn)的坐標(biāo)進(jìn)行打點(diǎn)劃線。

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