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龍圖騰網(wǎng)獲悉浙江中科尚弘離子裝備工程有限公司申請的專利一種用于晶圓加工的靶盤組件獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN120261379B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202510725325.4，技術領域涉及：H01L21/683；該發(fā)明授權一種用于晶圓加工的靶盤組件是由龔再生設計研發(fā)完成，并于2025-06-03向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本一種用于晶圓加工的靶盤組件在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種用于晶圓加工的靶盤組件，包括底座，在底座的上方設有旋轉靶盤，旋轉靶盤的底部設有旋轉軸，在旋轉靶盤的頂面設有若干用于放置晶圓的物料槽，晶圓通過設置在物料槽內的固定機構鎖緊。固定機構包括外殼體、以及設置在外殼體內的鎖緊組件；其中，外殼體的頂部用于放置晶圓，在外殼體內活動設置有基板，在基板上設有若干頂出桿，在基板的中間位置設有一組固定塊，固定塊之間設有導向桿，移動塊設置在導向桿上，且可在第二彈簧的作用下限位，移動塊的頂部與傳動桿的一端連接，傳動桿的另一端延伸至U形開口槽并伸出，在傳動桿的另一端端部套設有柔性限位塊，移動塊的底部由基板中間的開口伸出外殼體。

本發(fā)明授權一種用于晶圓加工的靶盤組件在權利要求書中公布了：1.一種用于晶圓加工的靶盤組件，其特征在于，包括底座11，在底座11的上方設有旋轉靶盤12，旋轉靶盤12的底部設有旋轉軸13，在旋轉靶盤12的頂面設有若干用于放置晶圓4的物料槽14，晶圓4通過設置在物料槽14內的固定機構5鎖緊； 所述固定機構5包括外殼體51、以及設置在外殼體51內的鎖緊組件52； 所述外殼體51通過沿頂部外邊沿設置的階梯結構511限位安裝在旋轉靶盤12的物料槽14內，外殼體51的頂面512用于放置晶圓4，在頂面512上開設有若干頂出孔513，在頂面512的邊緣一部分位置設有限位擋板514，在限位擋板514相對側的頂面512開設有U形開口槽515； 所述鎖緊組件52包括活動設置在外殼體51內的基板521，在基板521上設有若干與頂出孔513位置相對應的頂出桿522，在頂出桿522上套設有第一彈簧523，在基板521的中間位置設有一組固定塊524，固定塊524之間設有導向桿525，移動塊526設置在導向桿525上，且可在第二彈簧529的作用下限位，移動塊526的頂部與傳動桿527的一端連接，傳動桿527的另一端延伸至U形開口槽515并伸出，在傳動桿527的另一端端部套設有柔性限位塊528，移動塊526的底部由基板521中間的開口伸出外殼體51。

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