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龍圖騰網(wǎng)獲悉廣東粵港澳大灣區(qū)國家納米科技創(chuàng)新研究院申請的專利一種快速制備光刻膠掩膜的壓印方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN115167072B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202210079240.X，技術領域涉及：G03F1/00；該發(fā)明授權一種快速制備光刻膠掩膜的壓印方法是由胡慶文;杜有成;李曉軍設計研發(fā)完成，并于2022-01-24向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本一種快速制備光刻膠掩膜的壓印方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供了一種快速制備光刻膠掩膜的壓印方法，包括以下步驟：a采用復制材料通過壓印方式獲得硅母模版上的納米結構圖形數(shù)據(jù)，得到壓印后的樣片；b在步驟a得到的壓印后的樣片邊緣開口后，將帶有納米結構圖形數(shù)據(jù)的一面與基體貼合，然后在開口處注入光刻膠并使其填滿壓印后的樣片與基體的間隙，再經(jīng)UV固化，得到處理后的樣品；c將步驟b得到的處理后的樣品剝離壓印后的樣片，并去除開口處的光刻膠，得到納米結構圖形數(shù)據(jù)與所述硅母模版一致的光刻膠掩膜。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明采用非光刻的特定工藝步驟，實現(xiàn)整體較好的相互作用，能夠實現(xiàn)快速制備高保真精度的母模版，以便產(chǎn)品大批量生產(chǎn)制造使用，提高生產(chǎn)效率及產(chǎn)品良率。

本發(fā)明授權一種快速制備光刻膠掩膜的壓印方法在權利要求書中公布了：1.一種快速制備光刻膠掩膜的壓印方法，包括以下步驟： a采用復制材料通過壓印方式獲得硅母模版上的納米結構圖形數(shù)據(jù)，得到壓印后的樣片； b在步驟a得到的壓印后的樣片邊緣開口后，將帶有納米結構圖形數(shù)據(jù)的一面與基體貼合，然后在開口處注入光刻膠并使其填滿壓印后的樣片與基體的間隙，再經(jīng)UV固化，得到處理后的樣品；所述開口的位置與所述壓印后的樣片與基體貼合形成的間隙相通； c將步驟b得到的處理后的樣品剝離壓印后的樣片，并去除開口處的光刻膠，得到納米結構圖形數(shù)據(jù)與所述硅母模版一致的光刻膠掩膜。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或專利權人廣東粵港澳大灣區(qū)國家納米科技創(chuàng)新研究院，其通訊地址為：510700 廣東省廣州市黃埔區(qū)開源大道136號D棟201室；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。