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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社申請(qǐng)的專利基片處理方法和基片處理裝置獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN111799151B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202010218557.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/02；該發(fā)明授權(quán)基片處理方法和基片處理裝置是由中澤貴士;筱原和義設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-03-25向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本基片處理方法和基片處理裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供基片處理方法和基片處理裝置。本發(fā)明的基片處理方法包括保持步驟、事先加熱步驟、釋放步驟和移動(dòng)步驟。保持步驟保持基片。事先加熱步驟加熱相反面的中央部，該相反面是基片的與被處理面相反一側(cè)的面。釋放步驟在事先加熱步驟后，對(duì)被處理面的周緣部釋放作為硫酸和過氧化氫的混合液的SPM。移動(dòng)步驟在釋放步驟后，使SPM的釋放位置從被處理面的周緣部向中央部移動(dòng)。本發(fā)明能夠在使用SPM的基片處理中抑制偏差。

本發(fā)明授權(quán)基片處理方法和基片處理裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基片處理方法，其特征在于，包括： 保持基片并使其旋轉(zhuǎn)的保持步驟； 事先加熱步驟，其通過對(duì)所述基片的相反面的中央部釋放加熱流體，被供給到所述基片的所述加熱流體因伴隨所述基片的旋轉(zhuǎn)的離心力而在所述基片的所述相反面擴(kuò)散，所述基片的溫度上升，其中所述相反面是所述基片的與被處理面相反的一側(cè)的面； 釋放步驟，其在所述事先加熱步驟后，在周緣部設(shè)想溫度與由溫度傳感器獲取到的所述被處理面的中央部的溫度之差為40℃以下的狀態(tài)下，對(duì)所述被處理面的周緣部釋放作為硫酸和過氧化氫的混合液的SPM，其中，所述周緣部設(shè)想溫度是作為所述基片的周緣部的溫度通過事先的實(shí)驗(yàn)求取并存儲(chǔ)于存儲(chǔ)部的溫度，所述基片的周緣部的溫度是假設(shè)對(duì)所述被處理面的周緣部釋放了所述SPM時(shí)所設(shè)想的溫度；以及 移動(dòng)步驟，其在所述釋放步驟后，使所述SPM的釋放位置從所述被處理面的周緣部向中央部移動(dòng)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。