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龍圖騰網獲悉中國科學院微電子研究所申請的專利顯微視覺入射光角度標定方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116358451B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111617952.4，技術領域涉及：G01B11/26；該發明授權顯微視覺入射光角度標定方法是由張滋黎;孟繁昌;紀榮祎;崔成君;王國名;石俊凱;潘映伶;王博;董登峰;周維虎設計研發完成，并于2021-12-27向國家知識產權局提交的專利申請。

本顯微視覺入射光角度標定方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種顯微視覺入射光角度標定方法，包括固定線結構光光源與顯微圖像采集單元，二者相對位置固定；計算顯微圖像采集單元放大倍率；設置標定塊使線結構光光源發射的線結構光經標定塊反射后被顯微圖像采集單元采集；移動標定塊使線結構光投射到第一平面，第一平面反射后被顯微圖像采集單元采集，在顯微圖像采集單元像平面上得到第一線結構光像；在同一水平面內移動標定塊，使得線結構光投射到第二平面，第二平面反射后被顯微圖像采集單元采集，在顯微圖像采集單元像平面上得到第二線結構光像；計算第一線結構光像與第二線結構光像的像間距；計算顯微視覺入射光角度。本發明裝置制備簡單，標定流程簡單，可快速完成結構光入射角度的標定。

本發明授權顯微視覺入射光角度標定方法在權利要求書中公布了：1.一種顯微視覺入射光角度標定方法，其特征在于，包括： 固定線結構光光源與顯微圖像采集單元，所述線結構光光源與顯微圖像采集單元相對位置固定； 計算所述顯微圖像采集單元的放大倍率β1； 設置標定塊，使得所述線結構光光源發射的線結構光經所述標定塊反射后能被所述顯微圖像采集單元采集，其中， 所述標定塊包括平行的第一平面及第二平面，所述第一平面與第二平面在所述標定塊上構成第一臺階，所述第一臺階的高度為H1； 移動所述標定塊，使得所述線結構光投射到第一平面，經所述第一平面反射后被所述顯微圖像采集單元采集，在所述顯微圖像采集單元的像平面上得到第一線結構光像； 在同一水平面內移動所述標定塊，使得所述線結構光投射到第二平面，經所述第二平面反射后被所述顯微圖像采集單元采集，在所述顯微圖像采集單元的像平面上得到第二線結構光像； 計算所述第一線結構光像與第二線結構光像的像間距δ1； 計算顯微視覺入射光角度θ1： 記θ1為最終標定的顯微視覺入射光角度。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院微電子研究所，其通訊地址為：100029 北京市朝陽區北土城西路3號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。