日月光半導體制造股份有限公司葉佑宏獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉日月光半導體制造股份有限公司申請的專利吸盤裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113903700B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111107246.5，技術領域涉及：H01L21/683；該發明授權吸盤裝置是由葉佑宏;呂秉修;盧昱霖;黃泰源設計研發完成，并于2021-09-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本吸盤裝置在說明書摘要公布了：本公開涉及一種吸盤裝置。該裝置包括：外框，具有第一表面；吸附部件，設置于第一表面，吸附部件包括復數個呈同心圓設置的圓形溝槽和兩個貫穿每一圓形溝槽的直線溝槽，其中，兩個直線溝槽交叉設置并夾設有一銳角。通過將貫穿每個每一圓形溝槽的兩個直角溝槽交叉設置并夾設有一銳角，有利于負壓氣流形成，以減少真空建立失敗的情況發生。
本發明授權吸盤裝置在權利要求書中公布了：1.一種吸盤裝置，包括： 外框，具有第一表面，所述外框的長度與當前機臺的尺寸相匹配； 吸附部件，設置于所述第一表面，所述吸附部件包括復數個呈同心圓設置的圓形溝槽和兩個貫穿每一圓形溝槽的直線溝槽，其中，兩個直線溝槽交叉設置并夾設有一銳角； 所述吸附部件設置有定位結構，所述定位結構包括與圓形溝槽同圓心設置的定位平面和設置于所述定位平面的復數個定位凹槽，所述復數個圓形溝槽的頂端與所述定位平面基本共面； 所述定位平面用于限制基板與所述吸附部件保持平面對接，以使所述基板被平行吸附于所述吸附部件上，所述定位凹槽用于限制所述基板與所述吸附部件的相對位置。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人日月光半導體制造股份有限公司，其通訊地址為：中國臺灣高雄市楠梓加工區經三路26號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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