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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會社國際電氣申請的專利基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及記錄介質獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN115132627B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202111090359.9，技術領域涉及：H01L21/677；該發(fā)明授權基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及記錄介質是由菊池俊之;大橋直史設計研發(fā)完成，并于2021-09-16向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。

本基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及記錄介質在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供一種處理效率高的技術，涉及基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及程序。本發(fā)明提供的技術，具有：反應器，其能夠對基板進行多種處理；輸送室，其與多個所述反應器鄰接；輸送機器人，其被設置于所述輸送室內，能夠向各個所述反應器輸送基板；存儲部，其記錄與各個所述處理對應的類別信息和與各個所述類別信息對應的處理時間信息；計算部，其計算與所述處理時間信息相匹配的時間中的別預定處理的處理時間的比例；處理選擇部，其根據(jù)所述比例，選擇進行所述預定處理的反應器；以及處理設定部，其設定為能夠在所選擇的所述反應器中進行所述預定處理。

本發(fā)明授權基板處理裝置、半導體裝置的制造方法以及記錄介質在權利要求書中公布了：1.一種半導體裝置的制造方法，其特征在于， 所述半導體裝置的制造方法具有： 將各個反應器中的處理的處理歷史記錄記錄于存儲部的工序； 接收與基板的處理對應的類別信息的工序； 從存儲部讀出所述類別信息和與各個所述類別信息對應的處理時間信息的工序； 計算與所述處理時間信息相匹配的時間中的預定處理的處理時間的比例的工序； 參照所述比例和所述反應器的處理歷史記錄信息，以使所述反應器中的所述處理歷史記錄均勻化的方式選擇進行所述預定處理的反應器的工序； 設定為能夠在所選擇的所述反應器中進行所述預定處理的工序； 向所述反應器輸送與所述類別信息對應的基板的工序；以及 在所述反應器中進行與所述類別信息對應的處理的工序。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯(lián)系本專利的申請人或專利權人株式會社國際電氣，其通訊地址為：日本東京都；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。