杰創(chuàng)半導(dǎo)體(蘇州)有限公司;江西杰創(chuàng)半導(dǎo)體有限公司祝進(jìn)田獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉杰創(chuàng)半導(dǎo)體(蘇州)有限公司;江西杰創(chuàng)半導(dǎo)體有限公司申請(qǐng)的專利一種高速防串?dāng)_集成芯片及其制作方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN120414265B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202510929207.5,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01S5/20;該發(fā)明授權(quán)一種高速防串?dāng)_集成芯片及其制作方法是由祝進(jìn)田設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2025-07-07向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種高速防串?dāng)_集成芯片及其制作方法在說明書摘要公布了:本發(fā)明涉及半導(dǎo)體開發(fā)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種高速防串?dāng)_集成芯片及其制作方法,在襯底上生長底層結(jié)構(gòu)、波導(dǎo)層及光柵結(jié)構(gòu),在光柵結(jié)構(gòu)表面并列生長激光器量子阱結(jié)構(gòu)和調(diào)制器的量子阱結(jié)構(gòu),刻蝕掉調(diào)制器區(qū)和激光器區(qū)的兩側(cè)邊緣部分,構(gòu)造出波導(dǎo)臺(tái)階,并在波導(dǎo)臺(tái)階兩側(cè)填充生長電流阻擋層,在波導(dǎo)臺(tái)階頂部生長P型歐姆接觸層,再次刻蝕調(diào)制器和激光器的兩側(cè)邊緣部分直至暴露底層結(jié)構(gòu)表面,形成芯片波導(dǎo);分別制作激光器和調(diào)制器的電極;并通過減薄、解離形成Bar條,端面鍍膜完成芯片制備。通過將激光器光柵制作在量子阱層的下方,設(shè)置溝槽將激光器和調(diào)制器斷開,降低激光器的閾值電流,提高激光器的輸出功率,避免激光器和調(diào)制器之間電信號(hào)串?dāng)_。
本發(fā)明授權(quán)一種高速防串?dāng)_集成芯片及其制作方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種高速防串?dāng)_集成芯片的制作方法,其特征在于,包括: 在襯底上通過外延生長獲得底層結(jié)構(gòu),在底層結(jié)構(gòu)上生長有波導(dǎo)層; 在波導(dǎo)層表面制作光柵結(jié)構(gòu),在光柵結(jié)構(gòu)表面外延生長第一量子阱結(jié)構(gòu); 刻蝕掉部分的第一量子阱結(jié)構(gòu),并在刻蝕空留區(qū)域內(nèi)外延生長第二量子阱結(jié)構(gòu), 第二量子阱結(jié)構(gòu)和保留的第一量子阱結(jié)構(gòu)沿長度方向前后并列設(shè)置,從上至下刻蝕直至暴露底層結(jié)構(gòu)表面,刻蝕掉第一量子阱結(jié)構(gòu)、第二量子阱結(jié)構(gòu)、光柵層及波導(dǎo)層沿長度方向的兩側(cè)邊緣部分,保留并列接觸的中間區(qū)域,構(gòu)造為波導(dǎo)臺(tái)階; 在刻蝕掉的兩側(cè)邊緣部分,填充電流阻擋層,并在電流阻擋層上外延生長P型歐姆接觸層; 從上至下刻蝕去除電流阻擋層和P型歐姆接觸層的兩側(cè)邊緣部分,保留并列接觸的中間區(qū)域,構(gòu)造出芯片波導(dǎo);從上至下刻蝕溝槽,將芯片波導(dǎo)分為并列獨(dú)立的激光器區(qū)和調(diào)制器區(qū),且激光器區(qū)的長度大于調(diào)制器區(qū)的長度; 所述溝槽從上至下越過波導(dǎo)層直至暴露底層結(jié)構(gòu)表面,且所述溝槽的長度不小于芯片波導(dǎo)的寬度; 所述激光器區(qū)的激光器波導(dǎo)結(jié)構(gòu)靠近調(diào)制器區(qū)的端面和所述調(diào)制器區(qū)的調(diào)制器波導(dǎo)結(jié)構(gòu)靠近激光器區(qū)的端面,其中至少一個(gè)端面構(gòu)造為多斜面尖端結(jié)構(gòu),以避免信號(hào)在激光器和調(diào)制器之間來回傳遞; 刻蝕芯片波導(dǎo)構(gòu)造獨(dú)立的激光器波導(dǎo)和調(diào)制器波導(dǎo); 所述調(diào)制器區(qū)的調(diào)制器波導(dǎo)結(jié)構(gòu)靠近外部光纖的端面構(gòu)造為多斜面尖端結(jié)構(gòu),以避免光信號(hào)在調(diào)制器和光纖之間來回傳遞; 分別制作激光器和調(diào)制器的電極,并通過后處理操作完成芯片制備。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人杰創(chuàng)半導(dǎo)體(蘇州)有限公司;江西杰創(chuàng)半導(dǎo)體有限公司,其通訊地址為:215000 江蘇省蘇州市中國(江蘇)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)蘇州片區(qū)金雞湖大道99號(hào)納米城西北區(qū)11棟406室;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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