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龍圖騰網(wǎng)獲悉深圳市艾德光子有限公司申請的專利批量晶圓的處理方法、蝕刻系統(tǒng)及存儲介質(zhì)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114388403B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202111363920.6，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)批量晶圓的處理方法、蝕刻系統(tǒng)及存儲介質(zhì)是由李忠韓設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-11-17向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本批量晶圓的處理方法、蝕刻系統(tǒng)及存儲介質(zhì)在說明書摘要公布了：本申請公開了一種批量晶圓的處理方法、蝕刻系統(tǒng)及存儲介質(zhì)，屬于半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域。所述方法包括：在批量晶圓的處理之前，使用無晶圓清洗基線對反應(yīng)室的腔室進(jìn)行無晶圓清洗，在清洗后對批量晶圓中的第一個產(chǎn)品晶圓進(jìn)行蝕刻并檢測工藝性能是否符合工藝規(guī)范；若不符合，對無晶圓清洗基線的清洗強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整，使用調(diào)整后的無晶圓清洗基線對腔室進(jìn)行無晶圓清洗后，對第二個產(chǎn)品晶圓進(jìn)行蝕刻并檢測工藝性能是否符合工藝規(guī)范；若符合，根據(jù)調(diào)整后的無晶圓清洗基線對批量晶圓依次進(jìn)行蝕刻。如此，可以預(yù)先優(yōu)化無晶圓清洗強(qiáng)度，使得優(yōu)化后的無晶圓清洗能夠平衡腔室的聚合物沉積，批量晶圓處理過程中聚合物狀態(tài)保持穩(wěn)定，減小對蝕刻速率影響。

本發(fā)明授權(quán)批量晶圓的處理方法、蝕刻系統(tǒng)及存儲介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種批量晶圓的處理方法，其特征在于，所述方法包括： 對反應(yīng)室進(jìn)行腔室調(diào)節(jié)，對蝕刻工藝的工藝參數(shù)進(jìn)行校驗； 使用無晶圓清洗流程對所述反應(yīng)室的腔室進(jìn)行無晶圓清洗，在無晶圓清洗后對所述批量晶圓中的第一個產(chǎn)品晶圓進(jìn)行蝕刻，并檢測對所述第一個產(chǎn)品晶圓進(jìn)行蝕刻的工藝性能是否符合工藝規(guī)范； 若對所述第一個產(chǎn)品晶圓進(jìn)行蝕刻的工藝性能不符合工藝規(guī)范，則對所述無晶圓清洗流程的清洗強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整； 使用調(diào)整后的無晶圓清洗流程對所述反應(yīng)室的腔室進(jìn)行無晶圓清洗，在無晶圓清洗后對所述批量晶圓的第二個產(chǎn)品晶圓進(jìn)行蝕刻，并檢測對所述第二個產(chǎn)品晶圓進(jìn)行蝕刻的工藝性能是否符合工藝規(guī)范； 若對所述第二個產(chǎn)品晶圓進(jìn)行蝕刻的工藝性能符合工藝規(guī)范，則根據(jù)調(diào)整后的無晶圓清洗流程對所述批量晶圓中未處理的產(chǎn)品晶圓依次進(jìn)行蝕刻； 其中，所述對所述無晶圓清洗流程的清洗強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整，包括： 根據(jù)晶圓處理的工藝時長與無晶圓清洗時長之間的對應(yīng)關(guān)系，將所述無晶圓清洗流程的清洗時長調(diào)整為對所述批量晶圓連續(xù)處理的工藝時長對應(yīng)的無晶圓清洗時長；所述晶圓處理的工藝時長與無晶圓清洗時長之間的對應(yīng)關(guān)系是預(yù)先根據(jù)樣本產(chǎn)品晶圓處理的不同工藝時長與對應(yīng)的飽和清洗時長進(jìn)行統(tǒng)計得到，所述飽和清洗時長是指按照相同無晶圓清洗配方進(jìn)行無晶圓清洗使得所述樣本產(chǎn)品晶圓在對應(yīng)工藝時長下沉積的聚合物狀態(tài)處于飽和狀態(tài)的清洗時長。

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