上海微電子裝備(集團)股份有限公司彭俊獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海微電子裝備(集團)股份有限公司申請的專利調焦調平裝置及光刻機獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115542674B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110739483.7，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權調焦調平裝置及光刻機是由彭俊;李道萍;孫建超;王曉慶;陳小娟;莊亞政;徐榮偉設計研發完成，并于2021-06-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本調焦調平裝置及光刻機在說明書摘要公布了：本發明提供了一種調焦調平裝置及光刻機，投影微鏡陣列組件的j個投影微鏡組將入射至其上的所述檢測光束轉換為j個投影光斑并投影成像在基底的表面，探測微鏡陣列組件的j個探測微鏡組分別將j個探測光斑分光后形成j個第一標記光斑和j個第二標記光斑，投影微鏡陣列組件和探測微鏡陣列組件空間同步調制，根據需要改變j的大小以及j個所述投影微鏡組和j個探測微鏡組的位置即可改變投影光斑、第一標記光斑和第二標記光斑的數量和位置，可以減少調焦調平裝置測量過程中因基底的表面采用了不同工藝圖案和工藝膜系所導致的工藝適應性誤差。
本發明授權調焦調平裝置及光刻機在權利要求書中公布了：1.一種調焦調平裝置，其特征在于，包括沿光路依次設置的： 照明組件，用于發出檢測光束； 投影微鏡陣列組件，包括i個投影微鏡組，j個所述投影微鏡組將入射至其上的所述檢測光束轉換為j個投影光斑并投影成像在基底的表面，j個所述投影光斑被所述基底的表面反射后形成j個探測光斑，其中，0＜j≤i； 探測微鏡陣列組件，包括i個探測微鏡組，與j個所述投影微鏡組對應的j個所述探測微鏡組分別將j個所述探測光斑分光后形成j個第一標記光斑和j個第二標記光斑；以及， 探測器組件，包括第一探測器單元和第二探測器單元，所述第一探測器單元和所述第二探測器單元分別用于探測j個所述第一標記光斑的能量和j個所述第二標記光斑的能量。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海微電子裝備(集團)股份有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區張東路1525號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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